Качество Порошок оксида церия высокой чистоты 4N для полупроводников CMP Фабрика
<
Качество Порошок оксида церия высокой чистоты 4N для полупроводников CMP Фабрика
>

Порошок оксида церия высокой чистоты 4N для полупроводников CMP

Наименование марки: LICHEN
Номер модели: ЛК
Место происхождения: Китай
Сертификация: ISO
Минимальное количество заказа: 20 кг
Цена: Contact us
Способность к поставкам: 3800МТ/ГОД

Детали продукта


Химическая формула: CeO2 CeO₂ Чистота: 4N
Размер частиц: 0,1–0,3 мкм Появление: Светло-желтый
Рассеивание: Настраивается в соответствии с применением Упаковка: Настроить
Выделить

Порошок оксида церия высокой чистоты 4N

,

оксид церия для полупроводников CMP

,

Порошок церия оксида редкоземельного элемента

Характер продукции


4N Высокочистый порошок оксида церия для полупроводниковой CMP

Обзор продукта

Порошок оксида церия (церия) полупроводникового класса CMP представляет собой сверхчистый оксид редкоземельных элементов, разработанный для химико-механической планаризации в производстве полупроводников. Строгий контроль над крупными частицами и металлическими примесями обеспечивает высокую селективность удаления на слоях диоксида кремния, минимизируя царапины, дефекты поверхности и загрязнения на подложках пластин для передовых полупроводниковых промышленных применений.



Ключевые особенности

  • Сверхнизкое содержание тяжелых металлов и крупных частиц
  • Высокая селективность удаления SiO₂ по сравнению с пленкой нитрида кремния
  • Однородная морфология частиц с низкой скоростью агломерации
  • Низкий уровень дефектов поверхности для процесса планаризации пластин
  • Строгая согласованность партий для массового производства полупроводников

Распределение размера частицПрименение

Порошок оксида церия высокой чистоты 4N для полупроводников CMP

CMP полупроводниковых пластин, планаризация оксида для изоляции мелких траншей (STI)

  • Сверхточная полировка подложек из плавленого кварца и кварца
  • Тонкая полировка подложек из стекла для дисплеев
  • Планаризация поверхности передовых полупроводниковых упаковочных материалов
  • Часто задаваемые вопросы

В: Можно ли использовать этот порошок оксида церия CMP для процесса полировки STI?

О: Да, этот сорт широко используется для полировки оксида для изоляции мелких траншей в полупроводниковой промышленности.

В: Какие документы вы можете предоставить для оксида церия полупроводникового класса?

О: Сертификат анализа (COA), паспорт безопасности (MSDS) и отчеты об анализе элементных примесей предоставляются по запросу.

В: Вы поставляете суспензию CMP или только сырой порошок оксида церия?

О: Мы поставляем сырой порошок церия. Техническая поддержка по разработке индивидуальных суспензий CMP может быть предложена.

Основные характеристики продукта

4N Высокочистый порошок оксида церия для полупроводниковой CMP Обзор продукта Порошок оксида церия (церия) полупроводникового класса CMP представляет собой сверхчистый оксид редкоземельных элементов, разработанный для химико-механической планаризации в производстве полупроводников. Строгий контроль ...

СОБЩЕННЫЕ ПРОДУКТЫ
Качество Полирующий порошок оксида церия для медицинского стекла и отделки биооптических компонентов Фабрика

Полирующий порошок оксида церия для медицинского стекла и отделки биооптических компонентов

Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...

Качество Полировальный порошок оксида церия для прецизионной чистовой обработки стеклокерамики Фабрика

Полировальный порошок оксида церия для прецизионной чистовой обработки стеклокерамики

Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...

Качество Полировальный порошок оксида церия для прецизионной чистовой обработки пластин из кварцевого кристалла Фабрика

Полировальный порошок оксида церия для прецизионной чистовой обработки пластин из кварцевого кристалла

Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...

Качество Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Фабрика

Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing

Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...

Спросите цитату

Пожалуйста, воспользуйтесь нашей онлайн-формой для запроса, если у вас есть вопросы, наша команда свяжется с вами как можно скорее.

Вы можете загрузить до 5 файлов и каждый файл размером 10M максимум.