Polvo de óxido de cerio de alta pureza de 4N para semiconductores CMP
Detalles del producto
| Fórmula química: | CeO₂ | Pureza del CeO₂: | 4N |
|---|---|---|---|
| Tamaño de partícula: | 0,1–0,3 µm | Apariencia: | Amarillo claro |
| Dispersión: | Personalizable según la aplicación | Embalaje: | Personalizar |
| Resaltar |
Polvo de óxido de cerio de alta pureza de 4N,Óxido de cerio para semiconductores CMP,Polvo de cerio de óxido de tierras raras |
||
Descripción de producto
Polvo de óxido de cerio de alta pureza de 4N para semiconductores CMP
Resumen del producto
El óxido de cerio (ceria) en polvo de grado CMP para semiconductores es un óxido de tierras raras de ultra alta pureza diseñado para la planarización química mecánica en la fabricación de semiconductores.El control estricto de las partículas gruesas y las impurezas metálicas garantiza una alta selectividad de eliminación en las capas de dióxido de silicio al tiempo que minimiza los arañazos, defectos superficiales y contaminación en sustratos de obleas para aplicaciones industriales avanzadas de semiconductores.
Características clave
- Impuridades de metales pesados muy bajas y contenido de partículas gruesas
- Alta selectividad de eliminación de SiO2 frente a la película de nitruro de silicio
- Morfología uniforme de las partículas con baja tasa de aglomeración
- Baja tasa de defectos de superficie para el proceso de planarización de obleas
- Consistencia del lote rigurosa para la producción en masa de semiconductores
Distribución del tamaño de las partículasEl
Aplicaciones
- Wafer semiconductor CMP, aislamiento de zanjas poco profundas (STI) planarización de óxido
- Polido de ultraprecisión de sílice fundido y sustrato de cuarzo
- Pulido fino del sustrato de vidrio de visualización
- Planarización de la superficie del material de embalaje de semiconductores avanzado
Preguntas frecuentes
P: ¿Se puede utilizar este polvo de óxido de cerio CMP para el proceso de pulido de las ITS?
R: Sí, este grado se utiliza ampliamente para el pulido de óxido de aislamiento de zanjas poco profundas en la industria de semiconductores.
P: ¿Qué documentos puede suministrar para el óxido de cerio de grado semiconductor?
R: Los informes de COA, MSDS y análisis de impurezas elementales están disponibles bajo petición.
Pregunta: ¿Provee el estiércol de CMP o sólo el polvo de óxido de cerio en bruto?
R: Proporcionamos polvo de ceria en bruto. Se puede ofrecer soporte técnico de formulación de lodo CMP personalizado.
Lo más destacado del producto
Polvo de óxido de cerio de alta pureza de 4N para semiconductores CMP Resumen del producto El óxido de cerio (ceria) en polvo de grado CMP para semiconductores es un óxido de tierras raras de ultra alta pureza diseñado para la planarización química mecánica en la fabricación de semiconductores.El ...
Polvo de pulido de óxido de cerio para vidrio médico y acabado de componentes bioópticos
Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...
Polvo de pulido de óxido de cerio para acabado de precisión de vidrio-cerámica
Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...
Polvo de pulido de óxido de cerio para acabado de precisión de obleas de cristal de cuarzo
Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...
Por favor, utilice nuestro formulario de contacto de consulta en línea de abajo si tiene alguna pregunta, nuestro equipo se pondrá en contacto con usted tan pronto como sea posible.
