4N hochreines Ceriumoxidpulver für Halbleiter-CMP
Produktdetails
| Chemische Formel: | CeO2 | CeO₂-Reinheit: | 4N |
|---|---|---|---|
| Partikelgröße: | 0,1–0,3 μm | Aussehen: | Hellgelb |
| Streuung: | Anpassbar je nach Anwendung | Verpackung: | Anpassen |
| Hervorheben |
4N-Cerium-Oxid-Pulver mit hoher Reinheit,Ceriumoxid für Halbleiter-CMP,Ceriumpulver aus Seltenerd-Oxid |
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Produkt-Beschreibung
4N hochreines Ceroxidpulver für Halbleiter-CMP
Produktübersicht
Ceroxid (Ceria)-Pulver in Halbleiter-CMP-Qualität ist ultrareines Seltenerdoxid, das für die chemisch-mechanische Planarisierung in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Strenge Kontrolle von Grobpartikeln und Metallverunreinigungen gewährleistet eine hohe Entnahmeselektivität auf Siliziumdioxid-Schichten, während Kratzer, Oberflächenfehler und Kontaminationen auf Wafer-Substraten für fortschrittliche Halbleiterindustrieanwendungen minimiert werden.
Hauptmerkmale
- Ultra-niedriger Gehalt an Schwermetallverunreinigungen und Grobpartikeln
- Hohe SiO₂-Entnahmeselektivität gegenüber Siliziumnitridfilm
- Einheitliche Partikelmorphologie mit geringer Agglomerationsrate
- Geringe Oberflächenfehlerrate für den Wafer-Planarisierungsprozess
- Strikte Chargenkonsistenz für die Halbleiter-Massenproduktion
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Halbleiterwafer-CMP, Planarisierung von flachen Gräben (STI) mit Oxid
- Ultrapräzisionspolieren von Quarzglas- und Quarzsubstraten
- Feinpolieren von Displayglas-Substraten
- Planarisierung von Oberflächen fortschrittlicher Halbleiterverpackungsmaterialien
- Häufig gestellte Fragen
F: Kann dieses CMP-Ceroxidpulver für den STI-Polierprozess verwendet werden?
A: Ja, diese Qualität wird in der Halbleiterindustrie häufig für das Polieren von flachen Gräben (STI) mit Oxid verwendet.
F: Welche Dokumente können Sie für Ceroxid in Halbleiterqualität liefern?
A: COA, MSDS und Berichte über elementare Verunreinigungsanalysen sind auf Anfrage erhältlich.
F: Liefern Sie CMP-Slurry oder nur rohes Ceroxidpulver?
A: Wir liefern rohes Ceria-Pulver. Technischer Support für kundenspezifische CMP-Slurry-Formulierungen kann angeboten werden.
Produkt-Highlights
4N hochreines Ceroxidpulver für Halbleiter-CMP Produktübersicht Ceroxid (Ceria)-Pulver in Halbleiter-CMP-Qualität ist ultrareines Seltenerdoxid, das für die chemisch-mechanische Planarisierung in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Strenge Kontrolle von Grobpartikeln und Metallverunreinigungen ...
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