مس پودر اکسید سریم با خلوص 4N برای CMP نیمه‌هادی
جزئیات محصول
| فرمول شیمیایی: | مدیرعامل | خلوص CeO2: | 4N |
|---|---|---|---|
| اندازه ذرات: | 0.1-0.3 میکرومتر | ظاهر: | زرد روشن |
| پراکندگی: | قابل تنظیم با توجه به برنامه | بسته بندی: | شخصی سازی |
| برجسته کردن |
پودر اکسید سریم با خلوص بالا 4N,اکسید سریم برای CMP نیمه‌هادی,پودر سریم اکسید خاکی کمیاب |
||
توضیحات محصول
پودر اکسید سریم با خلوص 4N برای CMP نیمه‌هادی
مرور کلی محصول
پودر اکسید سریم (سریا) گرید CMP نیمه‌هادی، اکسید خاکی کمیاب با خلوص فوق‌العاده بالا است که برای صاف‌سازی شیمیایی-مکانیکی در تولید نیمه‌هادی طراحی شده است. کنترل دقیق ذرات درشت و ناخالصی‌های فلزی، انتخاب‌پذیری حذف بالا بر روی لایه‌های دی‌اکسید سیلیکون را تضمین می‌کند و در عین حال خراش‌ها، نقص‌های سطحی و آلودگی روی زیرلایه‌های ویفر را برای کاربردهای پیشرفته صنعتی نیمه‌هادی به حداقل می‌رساند.
ویژگی‌های کلیدی
- محتوای ناخالصی فلزات سنگین و ذرات درشت فوق‌العاده کم
- انتخاب‌پذیری حذف بالای SiO₂ در مقایسه با لایه نیترید سیلیکون
- مورفولوژی یکنواخت ذرات با نرخ تجمع کم
- نرخ نقص سطح پایین برای فرآیند صاف‌سازی ویفر
- سازگاری دسته‌ای دقیق برای تولید انبوه نیمه‌هادی
توزیع اندازه ذراتکاربردها
CMP ویفر نیمه‌هادی، صاف‌سازی اکسید جداسازی ترانشه کم‌عمق (STI)
- صاف‌سازی فوق دقیق زیرلایه‌های سیلیس ذوب شده و کوارتز
- صاف‌سازی دقیق زیرلایه‌های شیشه نمایشگر
- صاف‌سازی سطح مواد بسته‌بندی پیشرفته نیمه‌هادی
- سوالات متداول
س: آیا این پودر اکسید سریم CMP را می‌توان برای فرآیند پولیش STI استفاده کرد؟
پ: بله، این گرید به طور گسترده برای پولیش اکسید جداسازی ترانشه کم‌عمق در صنعت نیمه‌هادی استفاده می‌شود.
س: چه مدارکی را می‌توانید برای اکسید سریم گرید نیمه‌هادی ارائه دهید؟
پ: COA، MSDS و گزارش‌های تجزیه و تحلیل ناخالصی عنصری در صورت درخواست موجود است.
س: آیا شما دوغاب CMP یا فقط پودر خام اکسید سریم را عرضه می‌کنید؟
پ: ما پودر خام سریا را ارائه می‌دهیم. پشتیبانی فنی فرمولاسیون دوغاب CMP سفارشی می‌تواند ارائه شود.
نکات برجسته محصول
پودر اکسید سریم با خلوص 4N برای CMP نیمه‌هادی مرور کلی محصول پودر اکسید سریم (سریا) گرید CMP نیمه‌هادی، اکسید خاکی کمیاب با خلوص فوق‌العاده بالا است که برای صاف‌سازی شیمیایی-مکانیکی در تولید نیمه‌هادی طراحی شده است. کنترل دقیق ذرات درشت و ناخالصی‌های فلزی، انتخاب‌پذیری حذف بالا بر روی لایه‌های دی‌اک...
پودر پولیش اکسید سریم برای پرداخت شیشه پزشکی و قطعات بیو-اپتیک
Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...
پودر پولیش اکسید سیریوم برای تکمیل دقیق شیشه-سیرامیک
Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...
پودر پولیش اکسید سیریوم برای تکمیل دقیق وافرهای کریستالی کوارتز
Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...
لطفا از فرم تماس آنلاین در زیر استفاده کنید اگر سوالی دارید، تیم ما در اسرع وقت با شما تماس خواهد گرفت.
