4N Wysokiej czystości proszek tlenku ceru do półprzewodnikowego CMP
Szczegóły produktu
| Wzór chemiczny: | CEO₂ | Czystość CeO₂: | 4N |
|---|---|---|---|
| Rozmiar cząstek: | 0,1–0,3 μm | Wygląd: | Jasnożółty |
| Rozproszenie: | Możliwość dostosowania w zależności od zastosowania | Opakowanie: | Dostosuj |
| Podkreślić |
4N proszek tlenku ceru o wysokiej czystości,tlenek ceru do półprzewodnikowego CMP,Cerium w proszku z tlenku ziem rzadkich |
||
Opis produktu
Proszek tlenku ceru o wysokiej czystości 4N do polerowania chemiczno-mechanicznego (CMP) w przemyśle półprzewodnikowym
Przegląd produktu
Proszek tlenku ceru (ceria) klasy CMP do zastosowań półprzewodnikowych to tlenek pierwiastków ziem rzadkich o ultra wysokiej czystości, przeznaczony do polerowania chemiczno-mechanicznego w produkcji półprzewodników. Ścisła kontrola nad grubymi cząstkami i zanieczyszczeniami metalicznymi zapewnia wysoką selektywność usuwania warstw dwutlenku krzemu, minimalizując jednocześnie zarysowania, defekty powierzchniowe i zanieczyszczenia na podłożach płytek krzemowych dla zaawansowanych zastosowań w przemyśle półprzewodnikowym.
Kluczowe cechy
- Ultra-niskie stężenie zanieczyszczeń metalami ciężkimi i grubych cząstek
- Wysoka selektywność usuwania SiO₂ w porównaniu do warstwy azotku krzemu
- Jednolita morfologia cząstek o niskim wskaźniku aglomeracji
- Niski wskaźnik defektów powierzchniowych w procesie polerowania płytek
- Rygorystyczna spójność partii dla masowej produkcji półprzewodników
Rozkład wielkości cząstekZastosowania
Polerowanie chemiczno-mechaniczne płytek półprzewodnikowych, polerowanie izolacji płytkiej (STI) dwutlenku krzemu
- Ultraprecyzyjne polerowanie podłoży z kwarcu topionego i kwarcu
- Precyzyjne polerowanie podłoży szklanych wyświetlaczy
- Polerowanie powierzchni materiałów do zaawansowanego pakowania półprzewodników
- Często zadawane pytania
P: Czy ten proszek tlenku ceru CMP może być używany do procesu polerowania STI?
O: Tak, ta klasa jest szeroko stosowana do polerowania dwutlenku krzemu w izolacji płytkiej w przemyśle półprzewodnikowym.
P: Jakie dokumenty można dostarczyć dla tlenku ceru klasy półprzewodnikowej?
O: COA, MSDS i raporty z analizy zanieczyszczeń pierwiastkowych są dostępne na życzenie.
P: Czy dostarczacie zawiesinę CMP, czy tylko surowy proszek tlenku ceru?
O: Dostarczamy surowy proszek cerii. Możemy zaoferować wsparcie techniczne w zakresie niestandardowych formulacji zawiesin CMP.
Najważniejsze cechy produktu
Proszek tlenku ceru o wysokiej czystości 4N do polerowania chemiczno-mechanicznego (CMP) w przemyśle półprzewodnikowym Przegląd produktu Proszek tlenku ceru (ceria) klasy CMP do zastosowań półprzewodnikowych to tlenek pierwiastków ziem rzadkich o ultra wysokiej czystości, przeznaczony do polerowania ...
Proszek polerski z tlenku ceru do wykańczania szkła medycznego i komponentów biooptycznych
Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...
Proszek polerowy z tlenku cerium do precyzyjnego wykończenia szkła-ceramiki
Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...
Proszek polerski z tlenku ceru do precyzyjnego wykańczania płytek z kryształu kwarcu
Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...
Uprzejmie prosimy o skorzystanie z naszego formularza kontaktowego online poniżej w przypadku jakichkolwiek pytań. Nasz zespół skontaktuje się z Państwem najszybciej jak to możliwe.
