Polvere di ossido di cerio ad alta purezza 4N per CMP semiconduttori
Dettagli del prodotto
| Formula chimica: | CeO2 | Purezza del CeO₂: | 4N |
|---|---|---|---|
| Dimensione delle particelle: | 0,1–0,3 μm | Aspetto: | Giallo chiaro |
| Dispersione: | Personalizzabile in base all'applicazione | Confezione: | Personalizzare |
| Evidenziare |
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Descrizione di prodotto
Polvere di ossido di cerio ad alta purezza 4N per CMP per semiconduttori
Panoramica del prodotto
La polvere di ossido di cerio (ceria) di grado CMP per semiconduttori è un ossido di terre rare ad altissima purezza progettato per la planarizzazione chimico-meccanica nella produzione di semiconduttori. Un controllo rigoroso sulle particelle grossolane e sulle impurità metalliche garantisce un'elevata selettività di rimozione sugli strati di biossido di silicio, minimizzando graffi, difetti superficiali e contaminazione sui substrati wafer per applicazioni industriali avanzate nei semiconduttori.
Caratteristiche principali
- Contenuto ultra-basso di impurità di metalli pesanti e particelle grossolane
- Elevata selettività di rimozione SiO₂ rispetto al film di nitruro di silicio
- Morfologia delle particelle uniforme con basso tasso di agglomerazione
- Basso tasso di difetti superficiali per il processo di planarizzazione dei wafer
- Rigorosa consistenza dei lotti per la produzione di massa di semiconduttori
Distribuzione della dimensione delle particelleApplicazioni
CMP di wafer per semiconduttori, planarizzazione dell'ossido di isolamento a trincea stretta (STI)
- Lucidatura ultra-precisa di substrati di silice fusa e quarzo
- Lucidatura fine di substrati di vetro per display
- Planarizzazione superficiale di materiali avanzati per il confezionamento di semiconduttori
- Domande frequenti
D: Questa polvere di ossido di cerio CMP può essere utilizzata per il processo di lucidatura STI?
R: Sì, questo grado è ampiamente utilizzato per la lucidatura dell'ossido di isolamento a trincea stretta nell'industria dei semiconduttori.
D: Quali documenti potete fornire per l'ossido di cerio di grado semiconduttore?
R: COA, MSDS e rapporti di analisi delle impurità elementari sono disponibili su richiesta.
D: Fornite slurry CMP o solo polvere di ossido di cerio grezzo?
R: Forniamo polvere di ceria grezza. È possibile offrire supporto tecnico per la formulazione personalizzata di slurry CMP.
Caratteristiche del prodotto
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