Pó de óxido de cério de alta pureza 4N para CMP de semicondutores
Detalhes do produto
| Fórmula Química: | CeO₂ | Pureza CeO₂: | 4N |
|---|---|---|---|
| Tamanho de partícula: | 0,1–0,3 μm | Aparência: | Amarelo claro |
| Dispersão: | Customizável de acordo com a aplicação | Embalagem: | Personalizar |
| Destacar |
Pó de óxido de cério de alta pureza 4N,óxido de cério para CMP de semicondutores,Óxido de terras raras |
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Descrição do produto
4N High Purity Cerium Oxide Powder for Semiconductor CMP
Visão geral do produto
Semiconductor CMP grade cerium oxide (ceria) powder is ultra high purity rare earth oxide designed for chemical mechanical planarization in semiconductor manufacturing. O óxido de cério (ceria) em pó é um óxido de terra rara de alta pureza projetado para planarização mecânica química na fabricação de semicondutores.Controlo rigoroso sobre partículas coarse e impurezas de metal garante alta seletividade de remoção em camadas de dióxido de silício enquanto minimiza arranhões, surface defects and contamination on wafer substrates for advanced semiconductor industrial applications. A utilização de substratos de wafer para o fabrico de produtos semicondutores é um dos principais desafios da indústria.
Características fundamentais
- Ultra-low heavy metal impurity and coarse particle content
- High SiO2 removal selectivity versus silicon nitride film
- Uniform particle morphology with low agglomeration rate (Morfologia uniforme de partículas com baixa taxa de aglomeração)
- Low surface defect rate for wafer planarization process (taxa de defeito de superfície baixa para o processo de planarização de wafer)
- Rigorous batch consistency for semiconductor mass production
Distribuição do tamanho das partículasAção
Aplicações
- Semicondutor de wafer CMP, isolamento de fossa (STI) planarização de óxido
- Fused silica and quartz substrate ultra-precision polishing
- Display glass substrate fine polishing
- Advanced semiconductor packaging material surface planarization
Perguntas Frequentes
Q: Pode este pó de óxido de cério CMP ser usado para processo de polir STI?
A: Sim, este grau é amplamente usado para poluição por óxido de isolamento de fossa em semicondutores.
Q: Que documentos pode fornecer para o óxido de cério de grau semicondutor?
A: COA, MSDS e relatórios de análise de impurezas elementares estão disponíveis mediante pedido.
Q: Você fornece CMP slurry ou só cerium oxide powder raw?
A: Nós fornecemos pó de cerâmica crua.
Destaques do Produto
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