4N ขนาดความบริสุทธิ์สูง Cerium Oxide Powder สําหรับครึ่งตัวนํา CMP
รายละเอียดสินค้า
| สูตรเคมี: | ซีอีโอ | CeO₂ ความบริสุทธิ์: | 4น |
|---|---|---|---|
| ขนาดอนุภาค: | 0.1–0.3 ไมโครเมตร | รูปร่าง: | สีเหลืองอ่อน |
| การกระจาย: | ปรับแต่งได้ตามการใช้งาน | บรรจุภัณฑ์: | ปรับแต่ง |
| เน้น |
4N สะอาดสูง ผงซีเรียมออกไซด์,cerium oxide สําหรับครึ่งนํา CMP,ผงเซเรียมออกไซด์หายาก |
||
คําอธิบายสินค้า
ผงเซเรียมออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง 4N สำหรับ CMP ในเซมิคอนดักเตอร์
ภาพรวมผลิตภัณฑ์
ผงเซเรียมออกไซด์ (เซเรีย) เกรด CMP สำหรับเซมิคอนดักเตอร์ เป็นออกไซด์ของธาตุหายากที่มีความบริสุทธิ์สูงพิเศษ ออกแบบมาเพื่อการขัดผิวแบบเคมีเชิงกล (Chemical Mechanical Planarization - CMP) ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ การควบคุมอนุภาคหยาบและสิ่งเจือปนที่เป็นโลหะอย่างเข้มงวด ช่วยให้มั่นใจได้ถึงการขจัดชั้นซิลิคอนไดออกไซด์ได้อย่างมีประสิทธิภาพสูง ในขณะเดียวกันก็ลดรอยขีดข่วน ความบกพร่องบนพื้นผิว และการปนเปื้อนบนแผ่นเวเฟอร์สำหรับแอปพลิเคชันอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง
คุณสมบัติหลัก
- ปริมาณสิ่งเจือปนโลหะหนักและอนุภาคหยาบต่ำพิเศษ
- อัตราการขจัด SiO₂ สูงเมื่อเทียบกับชั้นฟิล์มซิลิคอนไนไตรด์
- ลักษณะอนุภาคสม่ำเสมอพร้อมอัตราการจับตัวเป็นก้อนต่ำ
- อัตราความบกพร่องบนพื้นผิวต่ำสำหรับกระบวนการขัดผิวเวเฟอร์
- ความสม่ำเสมอของแต่ละล็อตอย่างเข้มงวดสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์จำนวนมาก
การกระจายตัวของขนาดอนุภาคการใช้งาน
การขัดผิวเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์, การขัดผิวออกไซด์สำหรับการแยกส่วนร่องตื้น (Shallow Trench Isolation - STI)
- การขัดผิวระดับสูงพิเศษสำหรับพื้นผิวแก้วฟิวส์ซิลิกาและควอตซ์
- การขัดละเอียดพื้นผิวแผ่นกระจกจอแสดงผล
- การขัดผิววัสดุบรรจุภัณฑ์เซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง
- คำถามที่พบบ่อย
ถาม: ผงเซเรียมออกไซด์ CMP นี้สามารถใช้สำหรับกระบวนการขัด STI ได้หรือไม่?
ตอบ: ใช่ เกรดนี้มีการใช้งานอย่างแพร่หลายสำหรับการขัดผิวออกไซด์สำหรับการแยกส่วนร่องตื้นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
ถาม: คุณสามารถจัดเตรียมเอกสารใดบ้างสำหรับเซเรียมออกไซด์เกรดเซมิคอนดักเตอร์?
ตอบ: COA, MSDS และรายงานการวิเคราะห์สิ่งเจือปนธาตุ สามารถจัดเตรียมให้ได้ตามคำขอ
ถาม: คุณจัดหา CMP slurry หรือเพียงแค่ผงเซเรียมออกไซด์ดิบ?
ตอบ: เราจัดหาผงเซเรียมออกไซด์ดิบ สามารถให้การสนับสนุนทางเทคนิคสำหรับการปรับสูตร CMP slurry แบบกำหนดเองได้
จุดเด่นของผลิตภัณฑ์
ผงเซเรียมออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง 4N สำหรับ CMP ในเซมิคอนดักเตอร์ ภาพรวมผลิตภัณฑ์ ผงเซเรียมออกไซด์ (เซเรีย) เกรด CMP สำหรับเซมิคอนดักเตอร์ เป็นออกไซด์ของธาตุหายากที่มีความบริสุทธิ์สูงพิเศษ ออกแบบมาเพื่อการขัดผิวแบบเคมีเชิงกล (Chemical Mechanical Planarization - CMP) ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ การควบคุม...
สับเคลือบซีเรียมอ๊อกไซด์สําหรับแก้วทางการแพทย์และการเสร็จประกอบชีวออปติก
Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...
ขาวเลืองซีเรียมอ๊อกไซด์สําหรับการทําปลายกระจก-เซรามิกความละเอียด
Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...
ผงขัดเซเรียมออกไซด์สำหรับการตกแต่งขั้นสุดท้ายของเวเฟอร์ผลึกควอตซ์
Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...
กรุณาใช้แบบสอบถามทางออนไลน์ด้านล่าง หากคุณมีคําถาม ทีมงานของเราจะติดต่อกลับกับคุณในเร็วที่สุด
