Bubuk Cerium Oksida Kemurnian Tinggi 4N untuk CMP Semikonduktor
Rincian produk
| Rumus Kimia: | CEO₂ | Kemurnian CeO₂: | 4N |
|---|---|---|---|
| Ukuran Partikel: | 0,1–0,3 m | Penampilan: | Kuning muda |
| Dispersi: | Dapat disesuaikan sesuai dengan aplikasi | Kemasan: | Sesuaikan |
| Menyoroti |
bubuk cerium oksida kemurnian tinggi 4N,cerium oksida untuk CMP semikonduktor,Bubuk cerium oksida tanah jarang |
||
Deskripsi Produk
4N bubuk Cerium Oxide kemurnian tinggi untuk CMP Semikonduktor
Ringkasan Produk
Semikonduktor CMP kelas cerium oksida (ceria) bubuk adalah ultra tinggi kemurnian langka bumi oksida yang dirancang untuk planarisasi mekanik kimia dalam manufaktur semikonduktor.Kontrol ketat terhadap partikel kasar dan kotoran logam memastikan selektivitas penghapusan yang tinggi pada lapisan silikon dioksida sambil meminimalkan goresan, cacat permukaan dan kontaminasi pada substrat wafer untuk aplikasi industri semikonduktor canggih.
Fitur Utama
- Kecemasan logam berat yang sangat rendah dan kandungan partikel kasar
- Selektivitas penghapusan SiO2 yang tinggi dibandingkan dengan film silikon nitrida
- Morfologi partikel seragam dengan tingkat aglomerasi rendah
- Tingkat cacat permukaan yang rendah untuk proses planarisasi wafer
- Konsistensi batch yang ketat untuk produksi massal semikonduktor
Distribusi ukuran partikelPeraturan
Aplikasi
- Wafer semikonduktor CMP, isolasi parit dangkal (STI) planarisasi oksida
- Pengelasan ultra-presisi silikat cair dan substrat kuarsa
- Tampilan susunan kaca yang dipoles halus
- Perataan permukaan bahan kemasan semikonduktor canggih
Pertanyaan yang Sering Diajukan
T: Bisakah bubuk CMP cerium oxide ini digunakan untuk proses polishing STI?
A: Ya, kelas ini banyak digunakan untuk polesan oksida isolasi parit dangkal di industri semikonduktor.
T: Dokumen apa yang dapat Anda berikan untuk cerium oxide kelas semikonduktor?
A: COA, MSDS dan laporan analisis kotoran unsur tersedia atas permintaan.
T: Apakah Anda memasok bubuk CMP atau hanya bubuk cerium oksida mentah?
A: Kami menyediakan bubuk ceria mentah. Bantuan teknis formulasi bubur CMP khusus dapat ditawarkan.
Sorotan Produk
4N bubuk Cerium Oxide kemurnian tinggi untuk CMP Semikonduktor Ringkasan Produk Semikonduktor CMP kelas cerium oksida (ceria) bubuk adalah ultra tinggi kemurnian langka bumi oksida yang dirancang untuk planarisasi mekanik kimia dalam manufaktur semikonduktor.Kontrol ketat terhadap partikel kasar dan ...
Bubuk Poles Cerium Oksida untuk Finishing Kaca Medis & Komponen Bio-Optik
Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...
Cerium oxide polishing powder untuk finishing presisi kaca-keramik
Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...
Bubuk Poles Cerium Oksida untuk Penyelesaian Presisi Wafer Kristal Kuarsa
Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.
