Poudre d'oxyde de cérium de haute pureté 4N pour CMP à semi-conducteurs
Détails de produit
| Formule chimique: | CeO2 | Pureté du CeO₂: | 4N |
|---|---|---|---|
| Taille des particules: | 0,1 à 0,3 μm | Apparence: | Jaune clair |
| Dispersion: | Personnalisable selon l'application | Conditionnement: | Personnaliser |
| Mettre en évidence |
Poudre d'oxyde de cérium de haute pureté 4N,oxyde de cérium pour les semi-conducteurs CMP,Poudre de cérium d'oxyde de terres rares |
||
Description de produit
Poudre d'oxyde de cérium de haute pureté 4N pour CMP à semi-conducteurs
Vue d'ensemble du produit
La poudre d'oxyde de cérium (ceria) de qualité CMP pour semi-conducteurs est un oxyde de terres rares de très haute pureté conçu pour la planarisation mécanique chimique dans la fabrication de semi-conducteurs.Un contrôle strict des particules grossières et des impuretés métalliques garantit une sélectivité élevée de l'élimination des couches de dioxyde de silicium tout en minimisant les rayures, les défauts de surface et la contamination sur les substrats des wafers pour les applications industrielles avancées en semi-conducteurs.
Principales caractéristiques
- Impureté des métaux lourds ultra-faible et teneur en particules grossières
- Sélectivité élevée de l'élimination du SiO2 par rapport au film de nitrure de silicium
- Morphologie uniforme des particules avec faible taux d'agglomération
- Faible taux de défauts de surface pour le processus de planarisation des plaquettes
- Rigoureuse cohérence des lots pour la production de masse de semi-conducteurs
Distribution de la taille des particulesLe gouvernement
Applications
- Wafer à semi-conducteurs CMP, isolation de tranchée peu profonde (STI) planarisation par oxyde
- Polissage de haute précision de silice fondue et de substrat de quartz
- L'affichage du substrate de verre finement poli
- Planarisation de la surface des matériaux d'emballage de semi-conducteurs avancés
Questions fréquemment posées
Q: Cette poudre d'oxyde de cérium CMP peut-elle être utilisée pour le processus de polissage des IST?
R: Oui, cette qualité est largement utilisée pour le polissage à l'oxyde d'isolation de tranchées peu profondes dans l'industrie des semi-conducteurs.
Q: Quels documents pouvez-vous fournir pour l'oxyde de cérium de qualité semi-conducteur?
R: Les rapports d'analyse de la COA, de la SDS et des impuretés élémentaires sont disponibles sur demande.
Q: Fournissez-vous de la suspension de CMP ou seulement de l'oxyde de cérium en poudre brute?
R: Nous fournissons de la poudre de ceria brute.
Points forts du produit
Poudre d'oxyde de cérium de haute pureté 4N pour CMP à semi-conducteurs Vue d'ensemble du produit La poudre d'oxyde de cérium (ceria) de qualité CMP pour semi-conducteurs est un oxyde de terres rares de très haute pureté conçu pour la planarisation mécanique chimique dans la fabrication de semi...
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium pour la finition du verre médical et des composants bio-optiques
Cerium Oxide Polishing Powder for Medical Glass & Bio-Optic Component Finishing Product Overview Medical optical grade cerium oxide polishing powder is a low-contamination rare earth abrasive designed for precision finishing of medical glass and bio-optic components, including endoscope lenses, ...
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium pour la finition de précision du vitrocéramique
Cerium Oxide Polishing Powder for Glass-Ceramic Precision Finishing Product Overview Glass-ceramic cerium oxide polishing powder is engineered for precision finishing of glass-ceramic materials. Glass-ceramic has mixed crystalline and glassy phases, requiring carefully tuned abrasive hardness and ...
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium pour la finition de précision des plaquettes de cristal de quartz
Cerium Oxide Polishing Powder for Quartz Crystal Wafer Precision Finishing Product Overview Quartz crystal grade cerium oxide polishing powder is a specialized rare earth abrasive developed for precision finishing of quartz crystal wafers. Tight particle size distribution delivers consistent ...
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing
Cerium Oxide Polishing Powder for Ceramic Substrate Precision Finishing Product Overview Advanced ceramic substrate cerium oxide polishing powder is a rare earth abrasive designed for precision finishing of alumina and ceramic substrates used in electronic packaging. Optimized particle size achieves ...
Veuillez utiliser notre formulaire de contact en ligne ci-dessous si vous avez des questions, notre équipe vous contactera dès que possible.
