Ceroxid-Poliermittel für die Präzisionsbearbeitung von Quarzkristall-Wafern
Produktdetails
| Chemische Formel: | CeO2 | CAS-Nr.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂-Reinheit: | ≥99 % | Partikelgröße: | 0,4–1,1 μm |
| Aussehen: | Hellgelbes Pulver | Verpackung: | Anpassbar |
| Hervorheben |
Ceroxid-Poliermittel für Quarz,Quarzkristall-Wafer-Poliermittel,Seltene Erden Poliermittel mit Garantie |
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Produkt-Beschreibung
Ceriumoxid Polierpulver für die Präzisionsveredelung von Quarzkristallwafern
Produktübersicht
Quarzkristall-Cerium-Oxid-Polierpulver ist ein spezialisiertes Seltenerdschleifmittel, das für die Präzisionsveredelung von Quarzkristallwafern entwickelt wurde.Eine enge Partikelgrößenverteilung sorgt für eine gleichbleibende Materialentfernung und ultragleite planare OberflächenIdeal für die Massenproduktion elektronischer Quarzkomponenten.
Wesentliche Merkmale
- Enge Partikelgrößenverteilung zur Vermeidung von Schäden am Kristalluntergrund
- Stabile und kontrollierbare Materialentfernung für die Frequenzkonsistenz
- Minimale Oberflächenmikrofehler auf dünnen Quarzwafern
- Gute Schlammfilterbarkeit für kontinuierliche Waferpolierlinien
- Niedrige Schwermetallverunreinigungen, die den elektronischen Herstellungsnormen entsprechen
PartikelgrößenverteilungDie

Anwendungen
- Quarzkristallwafer Präzisionslappen und -veredelung
- Planarisierung der Oberfläche mit dünnem Quarz
- Verarbeitung von Substraten für elektronische Frequenzkomponenten
Häufig gestellte Fragen
F: Können Sie kleine Testchargen für Waferversuche liefern?
A: Ja, Proben sind zur Prozessvalidierung verfügbar.
F: Ist dieses Pulver kompatibel mit Waferpolierpads?
A: Ja, es funktioniert gut mit Standardpolierpads für die Produktion von Quarzwafer.
Produkt-Highlights
Ceriumoxid Polierpulver für die Präzisionsveredelung von Quarzkristallwafern Produktübersicht Quarzkristall-Cerium-Oxid-Polierpulver ist ein spezialisiertes Seltenerdschleifmittel, das für die Präzisionsveredelung von Quarzkristallwafern entwickelt wurde.Eine enge Partikelgrößenverteilung sorgt für ...
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