132 Results For

"powder rare earth product"

คุณภาพ นาโนเซเรีย ซีเอ็มพี สลอร์รี่ความบริสุทธิ์สูง (ขนาดอนุภาค 200nm) ออกแบบสําหรับครึ่งตัวนํา โรงงาน

นาโนเซเรีย ซีเอ็มพี สลอร์รี่ความบริสุทธิ์สูง (ขนาดอนุภาค 200nm) ออกแบบสําหรับครึ่งตัวนํา

High-purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Particle Size) Designed For Semiconductor Descripti on High-purity nano ceria CMP slurry (100nm particle size) designed for semiconductor and advanced surface finishing. Stable dispersion, high removal rate, and ultra-low surface defects. It is ideal for next-generation precision polishing processes demanding nanometer-level surface control. Key Features & Advantages Nano-Scale Precision Polishing The 100 nm ceria particles enable

คุณภาพ ปรับปรุงเคมี Mechanical Polishing CMP สับลอร์รี่ พานีล LCD ต่ํากว่านาโนเมตร โรงงาน

ปรับปรุงเคมี Mechanical Polishing CMP สับลอร์รี่ พานีล LCD ต่ํากว่านาโนเมตร

Customized Polishing Slurry for LCD Panel Manufacturing Description Engineered for the stringent demands of display technologies, our customized cerium oxide slurries provide the high-precision finishing required for high-generation LCD and liquid crystal glass substrates. As automotive and consumer electronics move toward ultra-thin and curved profiles, our slurries deliver the sub-nanometer flatness and surface integrity essential for uniform light transmission. Core

คุณภาพ อ๊อกไซด์เซเรียม สังกัดสลอร์รี่ Abrasive สําหรับสับสราทแก้วทางออทติก โรงงาน

อ๊อกไซด์เซเรียม สังกัดสลอร์รี่ Abrasive สําหรับสับสราทแก้วทางออทติก

Cerium Oxide Slurry For Glass Substrates Description Our Cerium Oxide Slurry for Glass Substrates is engineered for high-precision polishing of a wide range of glass materials. Formulated with high-purity cerium oxide and a stable dispersion system, this slurry delivers excellent surface smoothness, controlled material removal, and low defect generation. It is ideal for applications requiring optical-grade finishes and high production consistency. Key Features High Purity

คุณภาพ โปรแกรมการปรับปรุงความเรียบเรียง Cerium Oxide Slurry Abrasive Polishing Paste สําหรับกระจกครึ่งตัวนํา โรงงาน

โปรแกรมการปรับปรุงความเรียบเรียง Cerium Oxide Slurry Abrasive Polishing Paste สําหรับกระจกครึ่งตัวนํา

Cerium Oxide Slurry For Semiconductor Glass Substrates Description Lichen Cerium Oxide Slurry for Semiconductor Glass Substrates is a high-purity, water-based polishing slurry formulated specifically for semiconductor glass applications. This slurry provides excellent material removal rates, consistent surface finishes, and precise planarization, making it ideal for polishing semiconductor glass substrates used in wafer-level packaging, photomasks, and advanced integrated

คุณภาพ ซุปเปอร์เซเรียมอ๊อกไซด์ในจํานวนมาก สําหรับกระจกเคลือบ โรงงาน

ซุปเปอร์เซเรียมอ๊อกไซด์ในจํานวนมาก สําหรับกระจกเคลือบ

Cerium Oxide Slurry For Display Cover Glass Description Lichen Cerium Oxide Slurry for Display Cover Glass is a high-purity, water-based slurry formulated for the precision polishing of display cover glass. Specifically designed for use in the manufacturing of smartphone screens, tablet covers, and other consumer electronics with glass touch surfaces, our cerium oxide slurry ensures excellent surface quality, enhanced optical clarity, and high durability. This slurry

คุณภาพ ความต้านทานต่อรอยขีดข่วน Cerium Oxide Slurry สําหรับการเคลือบกระจก 0.6μM โรงงาน

ความต้านทานต่อรอยขีดข่วน Cerium Oxide Slurry สําหรับการเคลือบกระจก 0.6μM

Cerium Oxide Slurry For Display Cover Glass Description Lichen Cerium Oxide Slurry for Display Cover Glass is a high-purity, water-based slurry designed for the precision polishing of display cover glass used in smartphones, tablets, wearables, and other consumer electronics. Formulated with ultra-fine cerium oxide particles, this slurry ensures superior surface smoothness, optical clarity, and scratch resistance, providing a premium finish for high-end glass covers. Perfect

คุณภาพ PH Neutral Cerium Oxide Rock Polish Slurry สําหรับกระจกจอรถยนต์ โรงงาน

PH Neutral Cerium Oxide Rock Polish Slurry สําหรับกระจกจอรถยนต์

Slurry For Polishing Of In-car Display Glass Description Lichen Slurry for Polishing In-Car Display Glass is a high-purity cerium oxide-based slurry designed specifically for the demanding requirements of automotive display glass polishing. This slurry is formulated to deliver superior surface smoothness, high optical clarity, and scratch-free finishes on the glass surfaces used in in-car displays, touchscreens, and instrument clusters. Ideal for automotive infotainment

คุณภาพ สารป้องกัน UV โลหะ CMP Cerium Oxide Slurry สําหรับการเคลือบกระจกก่อน โรงงาน

สารป้องกัน UV โลหะ CMP Cerium Oxide Slurry สําหรับการเคลือบกระจกก่อน

Cerium Oxide Slurry For Pre-coating Glass Polishing Description Lichen Cerium Oxide Slurry for Pre-Coating Glass Polishing is a high-performance, cerium oxide-based slurry designed specifically for pre-coating glass polishing. Ideal for use in the glass manufacturing and coating industries, this slurry ensures a smooth, defect-free surface that is essential for optimal adhesion and uniformity of glass coatings. Whether you are working with automotive glass, architectural

คุณภาพ CeO2 ที่ใช้ในน้ํา สลัดเลืองทางกลทางเคมี สําหรับการกําจัดความบกพร่องของกระจก โรงงาน

CeO2 ที่ใช้ในน้ํา สลัดเลืองทางกลทางเคมี สําหรับการกําจัดความบกพร่องของกระจก

Polishing Slurry For Float Glass Surface Defect RemovalDescriptionLichen Polishing Slurry for Float Glass Surface Defect Removal is a cerium oxide-based slurry specifically formulated to effectively remove surface defects from float glass. Whether addressing scratches, water spots, haze, or micro-defects, our slurry delivers superior material removal rates and enhances surface clarity, making it ideal for both manufacturing and post-production glass surface restoration

คุณภาพ นาโนเซเรีย ซีเอ็มพี สลาร์รี่ อะซิสเซเรียมอ๊อกไซด์ สลาร์รี่ ultra-fine สําหรับการเคลือบครึ่งตัวประกอบความแม่นยําสูง โรงงาน

นาโนเซเรีย ซีเอ็มพี สลาร์รี่ อะซิสเซเรียมอ๊อกไซด์ สลาร์รี่ ultra-fine สําหรับการเคลือบครึ่งตัวประกอบความแม่นยําสูง

Nano Ceria CMP Slurry | Ultra-Fine Cerium Oxide Slurry For High-Precision Semiconductor & Optical Polishing Descripti on Nano Ceria CMP Slurry is a high-purity cerium oxide polishing slurry specifically developed for advanced Chemical Mechanical Planarization (CMP) applications requiring precise material removal and superior surface quality. Formulated with uniformly dispersed nano-scale ceria particles, the slurry delivers an optimal balance between chemical activity and

คุณภาพ 2.2μM Ph Neutral Polishing CMP Slurry สําหรับสับสราทกระจก โรงงาน

2.2μM Ph Neutral Polishing CMP Slurry สําหรับสับสราทกระจก

CMP Slurry For Glass Wafer Substrates Description Lichen CMP Slurry for Glass Wafer Substrates is a high-purity, ready-to-use polishing slurry formulated for precision chemical-mechanical planarization (CMP) of glass wafer substrates. Designed for the advanced semiconductor, photonics, and microelectronics industries, this slurry ensures optimal material removal, uniform surface polishing, and low defect density, meeting the strict requirements for high-performance glass

คุณภาพ ค่าประสิทธิภาพสูง Cerium Oxide Slurry สําหรับการเคลือบพื้นผิว Display Cas 1306-38-3 โรงงาน

ค่าประสิทธิภาพสูง Cerium Oxide Slurry สําหรับการเคลือบพื้นผิว Display Cas 1306-38-3

High-Performance Cerium Slurry for Display Surface Finishing Description Achieve uncompromising optical clarity with our Precision-Engineered Cerium Oxide (CeO₂) Slurries. Specifically formulated for the display market, our slurries provide the nanometer-level flatness and defect-free surfaces essential for high-resolution LCD, OLED, and MicroLED consumer electronics. By combining high-purity rare earth oxides with advanced chemical stabilizers, our product line ensures

ก่อนหน้า ถัดไป
ก่อนหน้า
Page 11 ของ 11
ถัดไป