Pâte de poudre de polissage au cérium personnalisée pour le polissage de gaufres à semi-conducteurs
Détails de produit
| Taille des particules: | 3,0 ± 0,2 μm | N° CAS.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | Taux de suspension: | Haut |
| Plage de pH: | 7-10 | Formulation: | Personnalisé |
| Mettre en évidence |
Poudre de polissage au cérium personnalisée,poudre de polissage au cérium pour semi-conducteurs,une teneur en dioxyde de carbone de 0 |
||
Description de produit
Poudre de polissage pour le polissage des gaufres ultra-fines
Des descriptionssur
Le liquide de polissage à base de cérium de lichens pour la planarisation fine du verre semi-conducteur est un liquide de haute pureté,déchets à base d'hydrogène ou d'hydrogèneFormulé avec des particules d'oxyde de cérium contrôlées avec précision, ce lisier offre une excellente planéité de surface, une faible rugosité et une génération minimale de défauts.répondant aux exigences strictes de la production moderne de semi-conducteurs et de microélectronique.
Il convient au polissage d'un large éventail de substrats de verre semi-conducteurs, y compris le verre porteur, le verre interposant et les composants de verre semi-conducteur liés à l'affichage.
Principales caractéristiques et avantages
Abrasifs à haute pureté à l'oxyde de cérium
Les faibles niveaux d'impuretés métalliques aident à prévenir la contamination dans les processus de semi-conducteurs sensibles.
Excellente capacité de planarisation
Permet une élimination uniforme du matériau et une planéité supérieure sur les substrats en verre de grande surface.
Faible rugosité de surface
Réalise des surfaces ultra-lisses requises pour les étapes ultérieures de lithographie, de collage ou de revêtement.
Dispersion stable du lisier
La formulation optimisée assure une agglomération minimale des particules et un comportement de polissage constant.
Faible densité de défauts
Réduit efficacement les rayures, les fosses et les défauts liés aux particules lors de la planarisation fine.
Données techniques
| Formule moléculaire | Numéro CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparence | Application du projet |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 30,0 ± 0,2 μm | Poudre blanche | Polissage des gaufres |
Distribution de la taille des particulesLe gouvernement
Questions et réponses
1Qu'est-ce que la poudre de polissage des terres rares?
La poudre de polissage des terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour polir des composants optiques, des plaquettes de semi-conducteurs et des surfaces délicates comme le verre et les lentilles.une finition de haute clarté sans endommager le matériau.
2Comment choisir la bonne poudre de polissage de terres rares pour mon application?
Pour choisir la poudre de polissage idéale, prenez en considération des facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et des spécifications telles que la taille et la pureté des particules.Notre équipe de vente est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.
3Comment dois-je stocker la poudre de polissage des terres rares?
Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil.il dure généralement 1 à 2 ans.
4Vous fournissez des formulations de terres rares sur mesure?
Oui, nous proposons des poudres et des lisières de polissage de terres rares sur mesure, adaptées à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la lisière.
5Puis-je avoir un échantillon avant de faire une commande en vrac?
Nous fournissons des échantillons pour évaluation, contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.
6Comment puis-je passer une commande? Quel est le délai de livraison typique?
Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe de vente, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis.et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.
Points forts du produit
Poudre de polissage pour le polissage des gaufres ultra-fines Des descriptionssur Le liquide de polissage à base de cérium de lichens pour la planarisation fine du verre semi-conducteur est un liquide de haute pureté,déchets à base d'hydrogène ou d'hydrogèneFormulé avec des particules d'oxyde de c...
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...
Veuillez utiliser notre formulaire de contact en ligne ci-dessous si vous avez des questions, notre équipe vous contactera dès que possible.
