Halbleiter CeO2 Ceria Schlamm Cerium-basierte Glaspolierpulver
Produktdetails
| Partikelgröße: | 2,0 ± 0,2 μm | CAS-NR.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99 % | Aussetzungsrate: | Hoch |
| pH-Bereich: | 7-10 | Anwendung: | Ultraflacher Halbleiter |
| Hervorheben |
CeO2-Zereia-Schlamm,Ceria-Schlamm Pulver,Glaspolierpulver auf der Grundlage von CeO2 Cerium |
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Produkt-Beschreibung
Sonderpolierpulver für Halbleiterwafer mit hoher Reinheit
Beschreibungauf
Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor manufacturingOb zum Polieren von Siliziumwafern oder zusammengesetzten Halbleitern, unser Pulver sorgt für ultraflache Oberflächen mit geringer Rauheit und gleichmäßiger Dicke.Sie ist daher ideal für hochpräzise Anwendungen wie die Fotolithographie geeignet., CMP (Chemical Mechanical Planarization) und Dünnschichtdeposition.
Die feinen Schleifstoffe in unserem Polierpulver sorgen für eine kontrollierte Materialentfernung für eine präzise Oberflächenvorbereitung und verbessern die Ausbeute, Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleitergeräten.Lichen-Pulver ist an die spezifischen Anforderungen der Halbleiterproduktion in großen Mengen angepasst, die skalierbare Lösungen ermöglichen, ohne die Qualität oder Prozesseffizienz zu beeinträchtigen.
Hauptmerkmale und Vorteile
Ceriumoxid für hohe Präzision
Das Polierpulver von Lichen® ist mit hochreinem Cerium-Oxid hergestellt und gewährleistet eine optimale Polierleistung bei minimalen Oberflächenfehlern.so dass es perfekt für die ultra-glatte Oberfläche der Halbleiterherstellung geeignet ist.
Ultraflache Oberflächenveredelung
Das Pulver ist für Anwendungen konzipiert, bei denen die Oberflächenflächigkeit von entscheidender Bedeutung ist.ideal für die Fertigung fortgeschrittener Geräte und nachfolgende Schichten.
Niedrige Oberflächenrauheit
Das Pulver ist so konzipiert, dass es die Oberflächenrauheit reduziert und so eine glatte und flache Oberfläche mit hoher Präzision erreicht.mit einer Breite von mehr als 20 mm,.
Anpassungsfähige Materialentfernungsraten
Auf die spezifischen Bedürfnisse verschiedener Halbleitermaterialien zugeschnitten, kann das Polierpulver von Lichen® individuell angepasst werden, um kontrollierte Materialentfernungsraten zu gewährleisten.Optimierung der Polierleistung bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung hochwertiger Waferoberflächen.
Technische Daten
| Molekulare Formel | CAS Nr. | CeO2 % | D50 (μm) | Aussehen | Anwendung |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 Prozent | 20,0 ± 0,2 μm | Weißes Pulver | Ultraflache Halbleiter |
PartikelgrößenverteilungDie

Fragen und Antworten
1- Was ist Seltenerdpolishingpulver?
Seltenerdpolster ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren optischer Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlicher Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird.mit einem hohen Durchsichtigkeitsgrad ohne Materialschädigung.
2Wie wähle ich das richtige Polarpulver für seltene Erden für meine Anwendung?
Um das ideale Polierpulver auszuwählen, sollten Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit berücksichtigen.Unser Verkaufsteam hilft Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse..
3Wie sollte ich das Polierpulver für seltene Erden aufbewahren?
Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontamination zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten.Es dauert in der Regel 1-2 Jahre.
4Liefern Sie maßgeschneiderte Seltenerdformulationen?
Ja, wir bieten spezielle Polarpulver und Schlamm für seltene Erden an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich der Anpassung der Partikelgröße, der chemischen Zusammensetzung oder der Konsistenz des Schlamms.
5Kann ich eine Probe bekommen, bevor ich eine Großbestellung mache?
Wir stellen Proben zur Auswertung zur Verfügung. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren die Lieferung.
6Wie kann ich eine Bestellung aufgeben?
Um eine Bestellung zu platzieren, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot bietet.Und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist..
Produkt-Highlights
Sonderpolierpulver für Halbleiterwafer mit hoher Reinheit Beschreibungauf Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor ...
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Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...
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Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...
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Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...
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High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...
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