Halbleiter CeO2 Ceria Schlamm Cerium-basierte Glaspolierpulver
Produktdetails
| Partikelgröße: | 2,0 ± 0,2 μm | CAS-NR.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99 % | Aussetzungsrate: | Hoch |
| pH-Bereich: | 7-10 | Anwendung: | Ultraflacher Halbleiter |
| Hervorheben |
CeO2-Zereia-Schlamm,Ceria-Schlamm Pulver,Glaspolierpulver auf der Grundlage von CeO2 Cerium |
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Produkt-Beschreibung
Sonderpolierpulver für Halbleiterwafer mit hoher Reinheit
Beschreibungauf
Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor manufacturingOb zum Polieren von Siliziumwafern oder zusammengesetzten Halbleitern, unser Pulver sorgt für ultraflache Oberflächen mit geringer Rauheit und gleichmäßiger Dicke.Sie ist daher ideal für hochpräzise Anwendungen wie die Fotolithographie geeignet., CMP (Chemical Mechanical Planarization) und Dünnschichtdeposition.
Die feinen Schleifstoffe in unserem Polierpulver sorgen für eine kontrollierte Materialentfernung für eine präzise Oberflächenvorbereitung und verbessern die Ausbeute, Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleitergeräten.Lichen-Pulver ist an die spezifischen Anforderungen der Halbleiterproduktion in großen Mengen angepasst, die skalierbare Lösungen ermöglichen, ohne die Qualität oder Prozesseffizienz zu beeinträchtigen.
Hauptmerkmale und Vorteile
Ceriumoxid für hohe Präzision
Das Polierpulver von Lichen® ist mit hochreinem Cerium-Oxid hergestellt und gewährleistet eine optimale Polierleistung bei minimalen Oberflächenfehlern.so dass es perfekt für die ultra-glatte Oberfläche der Halbleiterherstellung geeignet ist.
Ultraflache Oberflächenveredelung
Das Pulver ist für Anwendungen konzipiert, bei denen die Oberflächenflächigkeit von entscheidender Bedeutung ist.ideal für die Fertigung fortgeschrittener Geräte und nachfolgende Schichten.
Niedrige Oberflächenrauheit
Das Pulver ist so konzipiert, dass es die Oberflächenrauheit reduziert und so eine glatte und flache Oberfläche mit hoher Präzision erreicht.mit einer Breite von mehr als 20 mm,.
Anpassungsfähige Materialentfernungsraten
Auf die spezifischen Bedürfnisse verschiedener Halbleitermaterialien zugeschnitten, kann das Polierpulver von Lichen® individuell angepasst werden, um kontrollierte Materialentfernungsraten zu gewährleisten.Optimierung der Polierleistung bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung hochwertiger Waferoberflächen.
Technische Daten
| Molekulare Formel | CAS Nr. | CeO2 % | D50 (μm) | Aussehen | Anwendung |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 Prozent | 20,0 ± 0,2 μm | Weißes Pulver | Ultraflache Halbleiter |
PartikelgrößenverteilungDie

Fragen und Antworten
1- Was ist Seltenerdpolishingpulver?
Seltenerdpolster ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren optischer Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlicher Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird.mit einem hohen Durchsichtigkeitsgrad ohne Materialschädigung.
2Wie wähle ich das richtige Polarpulver für seltene Erden für meine Anwendung?
Um das ideale Polierpulver auszuwählen, sollten Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit berücksichtigen.Unser Verkaufsteam hilft Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse..
3Wie sollte ich das Polierpulver für seltene Erden aufbewahren?
Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontamination zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten.Es dauert in der Regel 1-2 Jahre.
4Liefern Sie maßgeschneiderte Seltenerdformulationen?
Ja, wir bieten spezielle Polarpulver und Schlamm für seltene Erden an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich der Anpassung der Partikelgröße, der chemischen Zusammensetzung oder der Konsistenz des Schlamms.
5Kann ich eine Probe bekommen, bevor ich eine Großbestellung mache?
Wir stellen Proben zur Auswertung zur Verfügung. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren die Lieferung.
6Wie kann ich eine Bestellung aufgeben?
Um eine Bestellung zu platzieren, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot bietet.Und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist..
Produkt-Highlights
Sonderpolierpulver für Halbleiterwafer mit hoher Reinheit Beschreibungauf Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor ...
CMP-Qualitäts-Ceroxid-Poliermittel für AR-Optiken, Mikrolinsen-Arrays & tragbare optische Sensoren
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Ultrafeines Ceria-Oxid-Polierpulver für die Veredelung von Smart Wearable Cover Glas und Mikrooptik
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Hochreines Ceroxid-Poliermittel für die Herstellung von AR-Waveguide-Glas und optischen Linsen
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Cerium-Oxalat-Pulver chemische Reagenzelemente
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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