Qualité Poudre de polissage de verre à base de cérium à base de semi-conducteurs CeO2 Ceria Slurry Usine
<
Qualité Poudre de polissage de verre à base de cérium à base de semi-conducteurs CeO2 Ceria Slurry Usine
Qualité Poudre de polissage de verre à base de cérium à base de semi-conducteurs CeO2 Ceria Slurry Usine
>

Poudre de polissage de verre à base de cérium à base de semi-conducteurs CeO2 Ceria Slurry

Nom de marque: LICHEN
Numéro de modèle: LCR0320
Lieu d'origine: Chine
Certification: ISO9001
Quantité de commande minimale: 20KGS
Prix: NEGOCIABLE
Capacité à fournir: 250MT/MOIS

Détails de produit


Taille des particules: 2,0 ± 0,2 μm N° CAS.: 1306-38-3
CeO2: 99% Taux de suspension: Haut
Plage de pH: 7-10 application: Semi-conducteur ultra-plat
Mettre en évidence

L'escargot de céramique CeO2

,

Poudre à base d'escargot

,

Poudre de polissage de verre à base de cérium CeO2

Description de produit

Poudre de polissage personnalisée pour gaufres à semi-conducteurs de haute pureté

Des descriptionssur

Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor manufacturingQue ce soit pour polir des plaquettes de silicium ou des semi-conducteurs composés, notre poudre assure des surfaces ultra-plates avec une faible rugosité et une épaisseur uniforme.ce qui le rend idéal pour des applications de haute précision telles que la photolithographie, CMP (planarisation mécanique chimique) et dépôt à film mince.

 

Les abrasifs fins de notre poudre de polissage permettent un retrait contrôlé des matériaux pour une préparation de surface précise, améliorant le rendement, les performances et la fiabilité des dispositifs semi-conducteurs.La poudre de lichens est personnalisable pour répondre aux exigences spécifiques de la production de semi-conducteurs à volume élevé, permettant des solutions évolutives sans compromettre la qualité ou l'efficacité des processus.

 

Principales caractéristiques et avantages

Oxyde de cérium pour une haute précision

La poudre de polissage de Lichen est formulée avec de l'oxyde de cérium de haute pureté, garantissant des performances de polissage optimales avec un minimum de défauts de surface,ce qui le rend parfait pour obtenir les finitions ultra-lisses requises dans la fabrication de semi-conducteurs.

Finition de surface ultra-plate

Conçue pour les applications où la planéité de surface est critique, notre poudre assure que la plaque semi-conducteur est très uniforme avec des irrégularités de surface minimales,idéal pour la fabrication de dispositifs avancés et les couches suivantes.

Faible rugosité de surface

La poudre est conçue pour réduire la rugosité de la surface, ce qui garantit que des surfaces lisses et plates sont obtenues avec une grande précision,qui est essentiel pour la photolithographie et d'autres étapes de traitement du dispositif.

Taux d'élimination des matériaux personnalisables

Adapté aux besoins spécifiques de différents matériaux semi-conducteurs, la poudre de polissage Lichen® peut être personnalisée pour fournir des taux d'élimination de matériaux contrôlés,optimisation de l'efficacité du polissage tout en maintenant des surfaces de wafer de haute qualité.

 

Données techniques

Formule moléculaire Numéro CAS. CeO2 % D50 (μm) Apparence Application du projet
CeO2 1306-38-3 99% 20,0 ± 0,2 μm Poudre blanche Semi-conducteurs ultra-plates

 

Distribution de la taille des particulesLe gouvernement

 

Poudre de polissage de verre à base de cérium à base de semi-conducteurs CeO2 Ceria Slurry 0

Questions et réponses

1Qu'est-ce que la poudre de polissage des terres rares?

La poudre de polissage des terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour polir des composants optiques, des plaquettes de semi-conducteurs et des surfaces délicates comme le verre et les lentilles.une finition de haute clarté sans endommager le matériau.

2Comment choisir la bonne poudre de polissage de terres rares pour mon application?

Pour choisir la poudre de polissage idéale, prenez en considération des facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et des spécifications telles que la taille et la pureté des particules.Notre équipe de vente est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.

3Comment dois-je stocker la poudre de polissage des terres rares?

Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil.il dure généralement 1 à 2 ans.

4Vous fournissez des formulations de terres rares sur mesure?

Oui, nous proposons des poudres et des lisières de polissage de terres rares sur mesure, adaptées à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la lisière.

5Puis-je avoir un échantillon avant de faire une commande en vrac?

Nous fournissons des échantillons pour évaluation, contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.

6Comment puis-je passer une commande? Quel est le délai de livraison typique?

Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe de vente, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis.et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.

Points forts du produit

Poudre de polissage personnalisée pour gaufres à semi-conducteurs de haute pureté Des descriptionssur Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required ...

Produits connexes
Qualité Poudre de polissage Ceria de qualité CMP pour optique AR, séries de micro-lentilles et capteurs optiques portables Usine

Poudre de polissage Ceria de qualité CMP pour optique AR, séries de micro-lentilles et capteurs optiques portables

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Qualité Poudre de polissage à l'oxyde de cérium ultra-fin pour les revêtements de verre et les finitions en micro-optique Usine

Poudre de polissage à l'oxyde de cérium ultra-fin pour les revêtements de verre et les finitions en micro-optique

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Qualité Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté pour la fabrication de verre de guide d'ondes AR et de lentilles optiques Usine

Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté pour la fabrication de verre de guide d'ondes AR et de lentilles optiques

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Qualité Poudre d'oxalate de cérium Éléments réactifs chimiques Usine

Poudre d'oxalate de cérium Éléments réactifs chimiques

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Demandez une citation

Veuillez utiliser notre formulaire de contact en ligne ci-dessous si vous avez des questions, notre équipe vous contactera dès que possible.

Vous pouvez télécharger jusqu'à 5 fichiers et chaque fichier de 10M de taille max.