120 Results For

"cerium oxide slurry"

Ποιότητα Υψηλής καθαρότητας Nano Ceria CMP πολτός για την κατασκευή ημιαγωγών Εργοστάσιο

Υψηλής καθαρότητας Nano Ceria CMP πολτός για την κατασκευή ημιαγωγών

High-Purity Nano Ceria CMP Slurry for Semiconductor Manufacturing Product Overview Our High-Purity Ceria CMP Slurry is manufactured using premium cerium oxide nanoparticles to support demanding semiconductor polishing applications. The carefully controlled particle size provides an optimal balance ...

Ποιότητα Προσαρμοσμένη Χημική Μηχανική Λούστρωση CMP Slurry Sub Nanometer LCD Panel Εργοστάσιο

Προσαρμοσμένη Χημική Μηχανική Λούστρωση CMP Slurry Sub Nanometer LCD Panel

Customized Polishing Slurry for LCD Panel Manufacturing Description Engineered for the stringent demands of display technologies, our customized cerium oxide slurries provide the high-precision finishing required for high-generation LCD and liquid crystal glass substrates. As automotive and consumer ...

Ποιότητα Απαλλαγμένη από γρατζουνιές λάσπη γυαλισμού Ceria για οπτικά εξαρτήματα ακριβείας Εργοστάσιο

Απαλλαγμένη από γρατζουνιές λάσπη γυαλισμού Ceria για οπτικά εξαρτήματα ακριβείας

Scratch Free Ceria Polishing Slurry for Precision Optical Components Product Overview Scratch free ceria polishing slurry engineered for ultra-precision optical polishing applications. Provides excellent surface finish, minimized micro-scratches, and superior polishing consistency for optical lenses...

Ποιότητα Εξαιρετικά αποδοτική πάστα κερίου για στίλβωση πλακετών ζαφειριού και κρυστάλλων Εργοστάσιο

Εξαιρετικά αποδοτική πάστα κερίου για στίλβωση πλακετών ζαφειριού και κρυστάλλων

High Performance Ceria Slurry for Sapphire Wafer and Crystal Polishing Product Overview Professional ceria slurry optimized for sapphire polishing applications in semiconductor and optical industries. Achieves high surface smoothness, stable polishing efficiency, and low subsurface damage for ...

Ποιότητα Εξαιρετικά υψηλός ρυθμός αφαίρεσης πολτού κερίου για στίλβωση οπτικού γυαλιού και ημιαγωγών Εργοστάσιο

Εξαιρετικά υψηλός ρυθμός αφαίρεσης πολτού κερίου για στίλβωση οπτικού γυαλιού και ημιαγωγών

High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Product Overview High removal rate ceria slurry developed for fast and efficient polishing of optical glass and semiconductor substrates. Combines excellent material removal performance with stable surface quality to ...

Ποιότητα Υψηλής καθαρότητας CMP λασμός για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου Εργοστάσιο

Υψηλής καθαρότητας CMP λασμός για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου

High Purity CMP Slurry For Silicon Wafer Planarization Product Overview Advanced CMP slurry designed for silicon wafer polishing in semiconductor manufacturing. Delivers excellent surface planarization, low defectivity, stable removal rate, and superior wafer surface quality for IC, MEMS, and ...

Ποιότητα Χημική Μηχανική CMP γυάλινη σκόνη γυαλιστικής Εργοστάσιο

Χημική Μηχανική CMP γυάλινη σκόνη γυαλιστικής

Fine Particle Polishing Powder for Display Glass Description Elevate your surface quality to the industry standard with our High-Purity Fine Particle Cerium Oxide (CeO₂) Polishing Powders. Engineered specifically for the next generation of high-resolution displays, our powders deliver the sub...

Ποιότητα Οξείδιο του κερίου (Cerium oxide ceria), σκόνη γυάλωσης παρμπρίζ για φωτομάσκα, κενός πολύτιμος λίθος, 2,0 μm Εργοστάσιο

Οξείδιο του κερίου (Cerium oxide ceria), σκόνη γυάλωσης παρμπρίζ για φωτομάσκα, κενός πολύτιμος λίθος, 2,0 μm

Low-defect Cerium Oxide For Photomask Blank Polishing Description Our Low-defect Cerium Oxide is specifically formulated for the precision polishing of photomask blanks in semiconductor manufacturing. With a focus on minimizing defects and ensuring a flawless finish, this high-performance cerium ...

Ποιότητα Βιομηχανική λαπαριστική λαμαρίνη για γυαλί σπάνιων γης Εργοστάσιο

Βιομηχανική λαπαριστική λαμαρίνη για γυαλί σπάνιων γης

Industrial Abrasives For Crystal Glass Polishing Description Lichen Industrial Abrasives for Crystal Glass Polishing are specially formulated cerium oxide-based abrasives designed for high-precision polishing of crystal glass surfaces. Whether polishing fine crystal glassware, decorative glass, or ...

Ποιότητα Ημιαγωγός CeO2 Ceria Slurry Cerium-based Glass Polishing Powder Εργοστάσιο

Ημιαγωγός CeO2 Ceria Slurry Cerium-based Glass Polishing Powder

Custom Polishing Powder for High-Purity Semiconductor Wafers Description Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor ...

Ποιότητα Υδατοβαθμισμένο CeO2 Χημικό Μηχανικό Λουλούδι Λούστρας για την Απομάκρυνση Ελαττωμάτων του Γυαλιού Εργοστάσιο

Υδατοβαθμισμένο CeO2 Χημικό Μηχανικό Λουλούδι Λούστρας για την Απομάκρυνση Ελαττωμάτων του Γυαλιού

Polishing Slurry For Float Glass Surface Defect RemovalDescriptionLichen Polishing Slurry for Float Glass Surface Defect Removal is a cerium oxide-based slurry specifically formulated to effectively remove surface defects from float glass. Whether addressing scratches, water spots, haze, or micro...

Ποιότητα Υψηλής καθαρότητας γυαλιστική σκόνη Ceo2 για οθόνες OLED Εργοστάσιο

Υψηλής καθαρότητας γυαλιστική σκόνη Ceo2 για οθόνες OLED

High Purity Polishing Slurry For OLED DisplaysDescriptionLichen High-Purity Polishing Slurry for OLED Displays is an advanced cerium oxide-based slurry designed to meet the demanding requirements of OLED display production. Engineered for ultra-smooth finishes, our slurry provides exceptional ...