Aluminium Oksida Polishing Slurry ♪ High-Purity Alumina Slurry Untuk Precision Optics, Metal & Semiconductor Polishing
Rincian produk
| Ukuran Partikel (D50): | 1,8–2,4μm | konten padat: | 17–22% berat |
|---|---|---|---|
| Nilai Ph: | 3-4 | Stabilitas Dispersi: | Bagus sekali |
| Penampilan: | Suspensi putih | Pengelompokan: | Sangat rendah |
| Menyoroti |
bubur polishing aluminium oksida untuk optik,bubur alumina kemurnian tinggi untuk polesan logam,bubur alumina untuk polishing semikonduktor |
||
Deskripsi Produk
Aluminium Oksida Polishing Slurry ♪ High-Purity Alumina Slurry Untuk Precision Optics, Metal & Semiconductor Polishing
Deskripsipada
Aluminium Oxide Polishing Slurry (Al2O3) adalah suspensi abrasif berkinerja tinggi yang dirancang untuk aplikasi finishing permukaan presisi dan polishing mekanik kimia (CMP).Dirumuskan dengan partikel alumina kemurnian tinggi dan teknologi dispersi canggih, bubur memberikan kinerja polesan yang stabil, penghapusan material yang konsisten, dan kualitas permukaan yang sangat baik di berbagai bahan.
Morfologi partikel yang dioptimalkan dan distribusi ukuran partikel yang terkontrol memungkinkan polesan yang efisien sambil meminimalkan goresan dan cacat permukaan.Lumpia ini cocok untuk proses polesan halus dan proses polesan menengah yang membutuhkan akurasi dimensi yang tinggi dan permukaan yang halus.
Dirancang untuk lingkungan produksi industri, bubur polishing aluminium oksida menawarkan stabilitas proses yang andal, keseragaman dispersi jangka panjang,dan kompatibilitas dengan sistem polesan otomatis.
Fitur & Keuntungan Utama
Efisiensi Penghapusan Bahan yang Tinggi
Partikel aluminium memberikan kemampuan polesan mekanik yang kuat, memungkinkan penghapusan yang efisien dari ketidakaturan permukaan dan tanda-tanda pemesinan.
Perbaikan permukaan yang sangat baik
Teknik partikel yang dioptimalkan meminimalkan goresan dan mencapai permukaan yang halus dan seragam yang cocok untuk aplikasi presisi tinggi.
Keuntungan Teknis Limbah Polishing Alumina
Aluminium oxide banyak digunakan karena:
Kekerasan tinggi dan efisiensi pemotongan
- Ketahanan haus yang sangat baik
- Sifat kimia yang stabil
- Kinerja polishing yang hemat biaya
Dibandingkan dengan abrasif yang lebih lembut, bubur alumina memberikan penghapusan material yang lebih cepat sambil mempertahankan kualitas permukaan yang baik.
Sorotan Produk
Aluminium Oksida Polishing Slurry ♪ High-Purity Alumina Slurry Untuk Precision Optics, Metal & Semiconductor Polishing Deskripsipada Aluminium Oxide Polishing Slurry (Al2O3) adalah suspensi abrasif berkinerja tinggi yang dirancang untuk aplikasi finishing permukaan presisi dan polishing mekanik ...
Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.
