酸化アルミニウム研磨スラリー | 精密光学、金属、半導体研磨用高純度アルミナスラリー
製品詳細
| 粒径(D50): | 1.8～2.4μm | 固形物: | 17～22wt% |
|---|---|---|---|
| Ph値: | 3〜4 | 分散安定性: | 素晴らしい |
| 外観: | ホワイト サスペンション | 凝集: | 非常に低い |
| ハイライト |
光学用酸化アルミニウム研磨スラリー,金属研磨用高純度アルミナスラリー,半導体研磨用アルミナスラリー |
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製品の説明
酸化アルミニウム研磨スラリー | 精密光学、金属、半導体研磨用高純度アルミナスラリー
説明酸化アルミニウム研磨スラリー（Al₂O₃）は、精密表面仕上げおよび化学機械研磨（CMP）用途向けに設計された高性能研磨剤懸濁液です。高純度アルミナ粒子と高度な分散技術で配合されたこのスラリーは、安定した研磨性能、一貫した材料除去、および幅広い材料にわたる優れた表面品質を提供します。
最適化された粒子形態と制御された粒子径分布により、傷や表面欠陥を最小限に抑えながら効率的な研磨が可能になります。このスラリーは、高い寸法精度と滑らかな表面仕上げを必要とするファインポリッシングおよび中間ポリッシングプロセスの両方に適しています。
産業生産環境向けに設計された酸化アルミニウム研磨スラリーは、信頼性の高いプロセス安定性、長期的な分散均一性、および自動研磨システムとの互換性を提供します。
主な特徴と利点
高い材料除去効率
アルミナ粒子は強力な機械的研磨能力を提供し、表面の凹凸や加工痕の効果的な除去を可能にします。
優れた表面仕上げ
最適化された粒子エンジニアリングにより、傷を最小限に抑え、高精度用途に適した滑らかで均一な表面を実現します。
アルミナ研磨スラリーの技術的利点
酸化アルミニウムは、その以下の特性により広く使用されています：
高い硬度と切削効率
優れた耐摩耗性
- 安定した化学的性質
- コスト効率の高い研磨性能
- より柔らかい研磨剤と比較して、アルミナスラリーは良好な表面品質を維持しながら、より迅速な材料除去を提供します。
製品 ハイライト
酸化アルミニウム研磨スラリー | 精密光学、金属、半導体研磨用高純度アルミナスラリー 説明酸化アルミニウム研磨スラリー（Al₂O₃）は、精密表面仕上げおよび化学機械研磨（CMP）用途向けに設計された高性能研磨剤懸濁液です。高純度アルミナ粒子と高度な分散技術で配合されたこのスラリーは、安定した研磨性能、一貫した材料除去、および幅広い材料にわたる優れた表面品質を提供します。 最適化された粒子形態と制御された粒子径分布により、傷や表面欠陥を最小限に抑えながら効率的な研磨が可能になります。このスラリーは、高い寸法精度と滑らかな表面仕上げを必要とするファインポリッシングおよび中間ポリッシングプロセスの両...
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