알루미늄 산화물 닦는 슬러리 ∙ 고순도 알루미나 슬러리 정밀 광학, 금속 및 반도체 닦기
제품 상세정보
| 입자 크기(D50): | 1.8~2.4μm | 솔리드 콘텐트: | 17~22wt% |
|---|---|---|---|
| Ph 값: | 3-4 | 분산 안정성: | 훌륭한 |
| 모습: | 흰색 서스펜션 | 응집: | 매우 낮습니다 |
| 강조하다 |
광학용 알루미늄 산화물 닦기 매개,금속 닦기용 고순도 알루미나 매일,반도체 닦기용 알루미나 매일 |
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제품 설명
알루미늄 산화물 닦는 슬러리 ∙ 고순도 알루미나 슬러리 정밀 광학, 금속 및 반도체 닦기
설명에
알루미늄 산화물 닦기 슬러리 (Al2O3) 는 정밀 표면 마무리 및 화학 기계 닦기 (CMP) 응용 프로그램에 설계 된 고성능 가려기 서스펜션입니다.고 순수 알루미나 입자와 첨단 분산 기술로 만들어졌습니다., 용액은 안정적인 닦기 성능, 일관성 물질 제거 및 광범위한 재료에 대한 우수한 표면 품질을 제공합니다.
최적화된 입자 형태와 제어 된 입자 크기 분포는 스크래치 및 표면 결함을 최소화하면서 효율적인 닦기를 가능하게합니다.용액은 고차원 정확성과 부드러운 표면 완비를 요구하는 미세한 닦기 및 중간 닦기 과정에 적합합니다..
산업 생산 환경에 설계 된 알루미늄 산화물 닦는 매립물은 신뢰할 수있는 공정 안정성, 장기 분산 균일성,그리고 자동 닦기 시스템과의 호환성.
주요 특징 및 장점
높은 물질 제거 효율성
알루미나 입자는 표면 불규칙성 및 가공 흔적을 효율적으로 제거 할 수있는 강력한 기계적 닦기 능력을 제공합니다.
탁월 한 표면
최적화된 입자 공학은 스크래치를 최소화하고 고정도 응용 프로그램에 적합한 부드럽고 균일한 표면을 달성합니다.
알루미나 폴리싱 슬러리의 기술적 장점
알루미늄 산화물은 다음과 같은 이유로 널리 사용됩니다.
높은 강도와 절단 효율성
- 뛰어난 마모 저항성
- 안정적인 화학적 성질
- 비용 효율적인 닦기 성능
더 부드러운 가열 물질과 비교하면 알루미나 슬러리는 좋은 표면 품질을 유지하면서 물질을 더 빨리 제거 할 수 있습니다.
제품 하이라이트
알루미늄 산화물 닦는 슬러리 ∙ 고순도 알루미나 슬러리 정밀 광학, 금속 및 반도체 닦기 설명에 알루미늄 산화물 닦기 슬러리 (Al2O3) 는 정밀 표면 마무리 및 화학 기계 닦기 (CMP) 응용 프로그램에 설계 된 고성능 가려기 서스펜션입니다.고 순수 알루미나 입자와 첨단 분산 기술로 만들어졌습니다., 용액은 안정적인 닦기 성능, 일관성 물질 제거 및 광범위한 재료에 대한 우수한 표면 품질을 제공합니다. 최적화된 입자 형태와 제어 된 입자 크기 분포는 스크래치 및 표면 결함을 최소화하면서 효율적인 닦기를 가능하게합니다.용액은 고차...
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