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薬剤のためのカスタムイトリウム稀土化合物粉末溶液
薬剤のためのカスタムイトリウム稀土化合物粉末溶液 概要: 製薬研究と製造の厳格な品質,純度,一貫性要件を満たすために 設計されています先進的な合成と浄化技術の活用特定の製剤,加工,規制のニーズに合わせて パーソナライズされた粉末ソリューションを提供しています 化学組成や粒子の大きさ 分布 形態 純度レベルを カスタマイズするために 製薬パートナーと緊密に協力し診断用薬剤の製造も 主要 な 特徴 と 利点 高度な純度とバッチ一致性 厳格な品質管理の下で生産され 複製可能性と 医薬品基準の遵守を保証します カスタマイズされた仕様 純度 (超高級まで),粒子の大きさ,表面特性,およびアプリケーション...
高純度セリウムヒドロキシード 希少土粉 原材料
セリウムヒドロキシド 分子式: Ce ((OH) 4 外見:セリウムヒドロキシドは淡い黄色の粉末です 適用: ガラス産業における澄まし剤や脱色剤として,高セリウム化合物の生産のための原材料として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 ポイント セルロース4-3N5 セルロース4-4N セルロース4-4N5 セルロース4-5N TREO ((wt%) 550.070だ0 550.070だ0 550.070だ0 550.070だ0 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ...
セリウム硫酸 原土鉱物 金属粉末
最安値 99.9% 99.99% 99.999% セリウム IV 硫酸塩 稀土粉末 3N 4N 5N 分子式: Ce2 ((SO4) 3) 外見:セリウム硫酸は白い粉状の結晶 適用: 分析用試料と一般的な酸化剤として使用され,放射線量計の製造に使用される. ポイント 仕様 試験基準 ポイント C2(SO)4)3-4NA C2(SO)4)3-4N5A C2(SO)4)3-5NA TREO ((wt%) ≥30 ≥30 ≥30 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9999 ≥99995 ...
希少土のネオジム・プラセオジム・オキシド ブラック・パウダー Pr6o11
プラセオジム酸化物 分子式: Pr6O11 外見:濃い茶色の粉末 用途: 陶器のガラスのプラセオジミウム黄色素,稀土永久磁石合金のための原材料,そしてガラス産業の染料として使用されます. ポイント 仕様 試験方法 ポイント PR について6オー11-2N5 PR について6オー11-3N TREO ((wt%) ≥99 ≥99 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.05 ≤0.02 GB/T 18115.1 代表取締役2/TREO ≤0.05 ≤0.02 PR について6オー11/TREO ≥995 ≥999 ほら2オー3/TREO ≤0.3 ≤0.05 S (スム)2オー3...
稀土酸化ガドリニウムGd2O3 TREO 99% ネオジム金属粉末
稀土酸化物 ガドリニウム酸化物 (Gd2O3) 概要: リッセンガドリニウム酸化物 (Gd2O3) は,産業用級の稀土酸化物で,総稀土酸化物 (TREO) 含有量は ≥99%で,安定かつ費用対効果の高い産業用に使用するために20kgの大量パッケージで供給されています.磁気で知られています電子材料,光学ガラス,セラミック,触媒,磁気アプリケーションに広く使用されています. 厳格な品質管理の下で製造されたこの製品は,一貫した化学組成,信頼性の高い性能,幅広い産業用用途で優れたプロセス互換性を提供します. 主要 な 特徴 と 利点 高いTREO含有量 (≥99%) 安定した性能と信頼性の高い材料の品...
化合物稀土酸化物 Eu2O3 発光ガラスのためのヨーロッパ酸化物粉
Eu2O3 يورピウム オキシド 粉末 投光ガラス 概要: リヒン Eu2O3 ユーロピウムオキシド粉末は,発光ガラスおよび発光ガラス製造のために特別に開発された高品質の稀土化合物オキシドである.玻璃システムにおける重要なアクティベーターである特殊ガラス製剤に組み込まれると強い赤色放出,高い色純度,安定した発光性能を提供します. 制御された純度,細粒子の特性, 優れた化学的安定性, この製品は機能ガラス,ディスプレイ材料,恒常的な熒光と長期安定性が求められる光学照明アプリケーション. 主要 な 特徴 と 利点 優れた発光特性 ユーロピウムイオンはガラスのマトリックスで高い色純度で強い赤色熒光...
CMPセリウムオキシド 稀土の磨きスラープーダー シリコン・ウェーファー オーダーメイド
シリコン・ウェーファー用シリウム酸化物CMP磨きスラム 記述 原子レベルの平らさと優れた装置の出力を 達成する シリアルセリウム酸化物 (CeO2) CMPスラリー半導体製造における最も要求の高い化学機械平面化 (CMP) プロセスのために特別に設計された. 2026年には ワッフル幾何学が 複雑化していくにつれて セルリアベースの製剤は 高い選択性と 非常に低い欠陥性を 提供します 卓越したパフォーマンス 高精選性および除去率:精密な性能のために設計されたスラリーは,高い物質除去率 (MRR) を維持しながら調節可能な精選性比を提供します. ナノ欠陥制御: 単分散型・100nm未満の粒子技術...
プラナライゼーション セリウムオキシド スラージー 半導体ガラス用 磨きパスタ
半導体ガラス基板のためのセリウムオキシドスラム 記述について 半導体ガラス基板用リッヒンセリウムオキシドスラーリーは,半導体ガラス用途に特製された高純度水性ポリシングスラーです.このスローリーは,優れた物質除去率を提供します.ワイファーレベルのパッケージ,フォトマスク,そして先進的な集積回路製造. 化学機械平面化 (CMP) プロセスで使用するために設計されたリッヒンのセリウムオキシドスローリーは,半導体産業が要求する重要な表面品質と均一性を維持しながら,大量の生産環境で安定した性能を提供します.. 主要 な 特徴 と 利点 超高純度セリウム酸化物 金属含有量が少ないため,敏感な半導体プロセス...
