"powder rare earth product"
水ベースのCeO2 化学機械的な磨きスラム ガラスの欠陥除去
浮遊ガラス表面の欠陥除去のための磨きスラム記述について浮遊ガラスの表面欠陥除去のためのリッセン磨きスラーリーは,浮遊ガラスの表面欠陥を効果的に除去するために特別に策定されたセリウム酸化物ベースのスラーリです.傷を処理するかどうか表面の透明性を向上させています 表面の透明性を向上させています製造と生産後ガラス表面修復の両方に理想的になります.浮遊ガラス産業で使用するために設計された この磨きスローリーは ガラスの表面が 完璧で滑らかな仕上げを 達成することを保証しますコートやラミネーションなどのさらなる加工に最適です溶液は光学的な透明性を向上させ,望ましくない欠陥を除去し,表面全体に均一性を確保...
2.2μM Ph 中性ポリシング CMP グラス・ウェーファー基板用スラム
CMP グラス・ウェーバー基板のためのスラム 記述について グラス・ウェーバー基板のためのリッセン・CMPスラーリーは,グラス・ウェーバー基板の精密化学機械的平面化 (CMP) のために製成された高純度,使用準備のよい磨きスラーリである.高度な半導体向けに設計されたこのスローリーは,材料を最適に除去し,表面を均等に磨き,欠陥密度が低くします.高性能ガラス・ウエファー・サブストラットに対する厳格な要求を満たすMEMS装置,フォトマスク,光学部品 高出力で高出力な用途のために設計された リッセン社のCMPスローリーは ガラスのウエファーを磨く上質な性能を提供します生産コストを最小限に抑えながら,顧...
高性能セリウムオキシドスラム 展示表面磨き用 CAS 1306-38-3
ディスプレイ表面の仕上げのための高性能セリウムスラー 記述 精密設計のセリウムオキシド (CeO2) 溶液で 妥協のない光学的な透明性を 実現します高解像度のLCDに不可欠なナノメートルの平らさと欠陥のない表面を供給しますOLED,マイクロLEDの消費電子機器 高純度な稀土酸化物と 先進的な化学安定剤を組み合わせることで 優れた化学機械磨き (CMP) 効果を保証しますすべてのディスプレイガラス基板に超低分散度とアングストロムレベルの仕上げを提供. パフォーマンス・アドバンテージ サブナノメートルの粗さ (Ra): 高級モバイルおよび自動車ディスプレイの光伝達とタッチ感度を最大限に高める表面仕...
