"powder rare earth product"
稀土酸化ガドリニウムGd2O3 TREO 99% ネオジム金属粉末
稀土酸化物 ガドリニウム酸化物 (Gd2O3) 概要: リッセンガドリニウム酸化物 (Gd2O3) は,産業用級の稀土酸化物で,総稀土酸化物 (TREO) 含有量は ≥99%で,安定かつ費用対効果の高い産業用に使用するために20kgの大量パッケージで供給されています.磁気で知られています電子材料,光学ガラス,セラミック,触媒,磁気アプリケーションに広く使用されています. 厳格な品質管理の下で製造されたこの製品は,一貫した化学組成,信頼性の高い性能,幅広い産業用用途で優れたプロセス互換性を提供します. 主要 な 特徴 と 利点 高いTREO含有量 (≥99%) 安定した性能と信頼性の高い材料の品...
ホワイト レアアース粉末 無水性ランタン塩化物 バッテリー材料
無水ランタン塩化物 分子式: LaCl3 外見: 白い粉状の結晶 用途:金属ランタンと石油催化剤の生産,水素貯蔵電池材料の原材料として,石油クラッキング催化剤の製造に使用される.単一の稀土産物の採掘やランタン濃度の稀土金属の溶融のための原材料として薬剤の催化や結晶の成長のための原材料としても使われています ポイント 仕様 試験方法 私はトム LaCl3-3N5B LaCl3-4N5B LaCl3-5NB TREO ((wt%) ≥650 ≥650 ≥650 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≥9995 ≥99995 ≥99999 GB/T 18115.1 代表取締役2/TREO ...
OEM ランタン硫酸 希少土物 白色粉末結晶
ランタン硫酸 分子式: La2 ((SO4) 3 外見: ランタン硫酸 は 白い粉状の結晶 適用: 保存剤として使用 ポイント 仕様 試験基準 ポイント ラ2(SO)4)3-4N ラ2(SO)4)3-5N TREO ((wt%) ≥30 ≥30 ラ2オー3/TREO ≥9999 ≥99999 GB/T 18115.1 代表取締役2/TREO ≤0.005 ≤0.005 PR について6オー11/TREO ≤0.002 ≤0.0002 ほら2オー3/TREO ≤0.002 ≤0.0002 S (スム)2オー3/TREO ≤0.0002 ≤0.00002 Y2オー3/TREO ≤0.0002 ≤0...
化合物稀土酸化物 Eu2O3 発光ガラスのためのヨーロッパ酸化物粉
Eu2O3 يورピウム オキシド 粉末 投光ガラス 概要: リヒン Eu2O3 ユーロピウムオキシド粉末は,発光ガラスおよび発光ガラス製造のために特別に開発された高品質の稀土化合物オキシドである.玻璃システムにおける重要なアクティベーターである特殊ガラス製剤に組み込まれると強い赤色放出,高い色純度,安定した発光性能を提供します. 制御された純度,細粒子の特性, 優れた化学的安定性, この製品は機能ガラス,ディスプレイ材料,恒常的な熒光と長期安定性が求められる光学照明アプリケーション. 主要 な 特徴 と 利点 優れた発光特性 ユーロピウムイオンはガラスのマトリックスで高い色純度で強い赤色熒光...
シルコニウム金属粉を磨く スラム 稀土化合物
光学表面の仕上げのための磨き粉 記述 セリウムベースの磨き粉は,光学ガラスと電子基板の高精度仕上げのために特別に設計された高性能稀土化合物です.これらの粉末は,シリカと独特の化学機械的な相互作用のために,業界の標準のままです超滑らかで擦り傷のない表面を生成する一方で,素材をより速く取り除くことができます. 主要な性能特性 高度な除去率効率的なストック除去を可能にします これは眼鏡やフラットガラスなどの大量生産環境にとって重要です 精密仕上げ:先進的なレーザー光学と高解像度のカメラレンズに必要なアングストロムレベルの表面荒さと低散乱の仕上げを達成できる. 絶好の懸垂:現代製剤は,再循環性スラムシ...
1.0μM 光子産業用稀土磨き粉 PH 中性
フォトニクス産業のための磨き粉 記述 光学産業用の 磨き粉は 光学や光子部品の 製造の要求に応えるように 特別に設計されていますこの高性能粉末はレンズに最適です鏡,プリズム,光ファイバー,波導体など,最先端の光学アプリケーションで使用されます. 主要な特徴: 特殊な純度最高品質の素材で製造された 磨き粉は 最低限の汚染と 最重要な用途でも一貫した結果を提供します 精密アブラシブ光学部品の表面を細かく仕上げながら 光学装置にとって不可欠な 厳格な容量と寸法整合性を維持します 効率的な物質除去:質を損なうことなく 流量を増やす 迅速で均質な磨き作用を提供します 広く互換性グラス,シリカ,サファイア...
稀土セリウムオキシド 超ガラス 磨き材料 粉末 ODM
消費者向けディスプレイ用ガラス磨き材料 記述 高性能セリウムオキシド磨きソリューションで 完璧な透明性と触覚の精度を 提供します私たちの材料は,特に高強度カバーガラスを仕上げるために設計されています. 化学機械磨き (CMP) 技術を活用して 超光滑な消費機器の美学的な魅力と機能的な耐久性を向上させる 擦り傷のない表面. 主要なパフォーマンスメリット 超低表面荒さ: 表面の薄さを最小限に抑えながら,ディスプレイの明るさと触覚感度を最大限に高めるサブナノメートルの仕上げを達成する. 高速素材除去:高量の生産環境に最適化された我々の材料は,表面の整合性を損なうことなく,磨きサイクル時間を最大30%...
タッチスクリーン ガラス 希少土の磨きスラーリ セリウムオキシド CMP カスタマイズ
タッチスクリーンガラスの磨き用の磨きスラム記述完璧で超透明な仕上げを 提供します 現代のモバイルとインタラクティブなディスプレイが 要求するものです精密なセリウムオキシードと高度な化学添加物を組み合わせて 表面の粗さをナノメートル未満で 特殊な光学透明性を達成します.主要なパフォーマンスメリット化学強化ガラスに最適化:微細骨折を誘発せず,薄いディスプレイガラスの構造的整合性を損なうことなく,硬化した表面を効果的に磨くために策定されています.ナノメートルの平面化: 私たちのスラリー技術は,微小な表面不規則性を除去するために,シネージス的な化学機械的作用を利用し,表面粗さ (Ra) を0まで低くし...
希少土のネオジム・プラセオジム・オキシド ブラック・パウダー Pr6o11
プラセオジム酸化物 分子式: Pr6O11 外見:濃い茶色の粉末 用途: 陶器のガラスのプラセオジミウム黄色素,稀土永久磁石合金のための原材料,そしてガラス産業の染料として使用されます. ポイント 仕様 試験方法 ポイント PR について6オー11-2N5 PR について6オー11-3N TREO ((wt%) ≥99 ≥99 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.05 ≤0.02 GB/T 18115.1 代表取締役2/TREO ≤0.05 ≤0.02 PR について6オー11/TREO ≥995 ≥999 ほら2オー3/TREO ≤0.3 ≤0.05 S (スム)2オー3...
セリウム硫酸 原土鉱物 金属粉末
最安値 99.9% 99.99% 99.999% セリウム IV 硫酸塩 稀土粉末 3N 4N 5N 分子式: Ce2 ((SO4) 3) 外見:セリウム硫酸は白い粉状の結晶 適用: 分析用試料と一般的な酸化剤として使用され,放射線量計の製造に使用される. ポイント 仕様 試験基準 ポイント C2(SO)4)3-4NA C2(SO)4)3-4N5A C2(SO)4)3-5NA TREO ((wt%) ≥30 ≥30 ≥30 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9999 ≥99995 ...
La2O3 ランタン酸化物粉 99.99% ガラスレンズ用
La2O3 ランタン酸化物粉 99.99% ガラスレンズ用 概要: リッセンラ2O3ランタンオキシド粉 (99.99%) は,光学ガラスおよびガラスレンズ製造のために特別に生産された高純度稀土酸化物です.優れた化学的純度で,均一な粒子の特性この材料は高屈折率光学ガラスにおける主要な添加物として広く使用され,優れた光学性能とプロセス信頼性を可能にします. ランタン酸化物は屈折率,分散制御,光学透明性を向上させる上で重要な役割を果たします精密レンズと先進的な光学部品のための不可欠な原材料になります. 主要 な 特徴 と 利点 高度な純度 (99.99%) 極低の不純度レベルは,一貫した光学特性を確...
化学 機械 セリウムオキシド 磨き スラム 光ファイバー用 粉末ガラス
光ファイバー製造用ポリシングスラム 記述 セリウムベースの磨きスラムは,光ファイバーコネクタで要求される超スムーズで低欠陥の末面仕上げを達成するための光ファイバー製造における業界標準である.高速通信システムで最小限の信号損失と低いバック反射を保証するために 化学的機械的な作用によって動作します. 製品概要 セリウムオキシドスラムは,高純度,マイクロまたは微小未満のセリウムオキシド粒子の水溶液である.分散と流れ特性を高めるための特有の添加物でグラスやセラミック繊維光学部品の最終的な磨き段階のために,鏡のような仕上げを提供するために,特別に策定されています. 光ファイバー化学機械磨き (CMP) ...
