MRR CeO2 統合回路製造のための風車窓稀土磨き粉
製品詳細
| 粒子サイズ: | 2.0±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 配合: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
MRR 稀土の磨き粉,統合回路稀土磨き粉,CeO2のフロントガラス磨き粉 |
||
製品の説明
集積回路の製造のための磨き粉
記述
半導体性能の次世代を可能にします. 特別に設計されたIC製造内の化学機械平面化 (CMP),粉末はノードに最適化されています
多層の相互接続と垂直スケーリングの複雑さは 史上前例のない表面平らさを要求しています高活性セリア粉末は,原子レベルの滑らかさと,高選択性を提供します. ウェファーの出力を最大化し,デバイスの信頼性を高めるために必要です..
業績基準
平面性: <0.15 nm の表面荒さ (Ra) 値を達成し,極端なリトグラフィと高密度結合に必要な超平面基盤を提供します.
ナノスケールでの欠陥削減:我々の先進的なプロセスは,微小の傷や表面の穴をほぼ排除する単分散粒子サイズ分布を保証します
高度なストック除去率 (MRR): 高度な純度な稀土化学を活用して 粉末は化学結合プロセスを加速し 大量の工場環境での生産量を増加させます
高度な純度 (>99%):最も厳格な基準を満たすために精製されています.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 2.0±02 | 白い粉末 | 集積回路製造 |
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
集積回路の製造のための磨き粉 記述 半導体性能の次世代を可能にします. 特別に設計されたIC製造内の化学機械平面化 (CMP),粉末はノードに最適化されています 多層の相互接続と垂直スケーリングの複雑さは 史上前例のない表面平らさを要求しています高活性セリア粉末は,原子レベルの滑らかさと,高選択性を提供します. ウェファーの出力を最大化し,デバイスの信頼性を高めるために必要です.. 業績基準 平面性: 99%):最も厳格な基準を満たすために精製されています. 技術データ 分子式 CAS番号 CeO2 % D50 (μm) 外見 適用する CeO2 1306-38-3 99% 2.0±02 白い...
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