Qualität MRR CeO2 Windschutzscheibe Seltenerdpolierpulver zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen Fabrik
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Qualität MRR CeO2 Windschutzscheibe Seltenerdpolierpulver zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen Fabrik
Qualität MRR CeO2 Windschutzscheibe Seltenerdpolierpulver zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen Fabrik
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MRR CeO2 Windschutzscheibe Seltenerdpolierpulver zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen

Markenbezeichnung: LICHEN
Modellnummer: LCR0120
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO9001
Mindestbestellmenge: 20 kg
Preis: NEGOCIABLE
Versorgungsfähigkeit: 250MT/MONAT

Produktdetails


Partikelgröße: 2,0 ± 0,2 μm CAS-NR.: 1306-38-3
CeO2: 99 % Aussetzungsrate: Hoch
pH-Bereich: 7-10 Formulierung: Maßgeschneidert
Hervorheben

MRR Seltenerdpolierpulver

,

Integrierter Schaltkreis für das Polieren von Seltenerdpulver

,

CeO2-Pulver zum Polieren von Windschutzscheiben

Produkt-Beschreibung

Polierpulver für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen

Beschreibung

Ermöglichen Sie die nächste Generation der Halbleiterleistung mit unseren Cerium-Oxid- (CeO2)-Polierpulvern. speziell für die chemische mechanische Planarisierung (CMP) in der IC-Fabrikation entwickelt,Unsere Pulver sind für Knoten optimiert.

Die Komplexität der mehrschichtigen Verbindungen und der vertikalen Skalierung erfordert eine beispiellose Oberflächenflächigkeit.Unsere hochaktiven Ceria-Pulver bieten die atomare Glatzigkeit und hohe Selektivität, die erforderlich sind, um den Waferertrag und die Geräteverlässlichkeit zu maximieren.

 

Leistungsbenchmarks 

Planarität: Erreicht Oberflächenrauheit (Ra) von < 0,15 nm und bietet die für extreme Lithographie und hochdünstige Bindungen notwendige ultraflache Basis.

Nanoskala-Defektreduktion: Unser fortschrittlicher Prozess sorgt für eine monodisperse Partikelgrößenverteilung und eliminiert praktisch Mikro-Kratzer und Oberflächengrube.

Hohe Lagerentfernung (MRR): Durch die Nutzung hochreiner Chemie aus seltenen Erden beschleunigen unsere Pulver den chemischen Bindungsprozess und erhöhen den Durchsatz in Fabrikumgebungen mit hohem Volumen.

Hohe Reinheit (>99%): Nach den strengsten Standards raffiniert.

 

Technische Daten

Molekulare Formel CAS Nr. CeO2 % D50 (μm) Aussehen Anwendung
CeO2 1306-38-3 99 Prozent 2.0±0.2 Weißes Pulver Herstellung von integrierten Schaltungen

 

Fragen und Antworten

1- Was ist Seltenerdpolishingpulver?

Seltenerdpolster ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren optischer Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlicher Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird.mit einem hohen Durchsichtigkeitsgrad ohne Materialschädigung.

2Wie wähle ich das richtige Polarpulver für seltene Erden für meine Anwendung?

Um das ideale Polierpulver auszuwählen, sollten Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit berücksichtigen.Unser Verkaufsteam hilft Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse..

3Wie sollte ich das Polierpulver für seltene Erden aufbewahren?

Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontamination zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten.Es dauert in der Regel 1-2 Jahre.

4Liefern Sie maßgeschneiderte Seltenerdformulationen?

Ja, wir bieten spezielle Polarpulver und Schlamm für seltene Erden an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich der Anpassung der Partikelgröße, der chemischen Zusammensetzung oder der Konsistenz des Schlamms.

5Kann ich eine Probe bekommen, bevor ich eine Großbestellung mache?

Wir stellen Proben zur Auswertung zur Verfügung. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren die Lieferung.

6Wie kann ich eine Bestellung aufgeben?

Um eine Bestellung zu platzieren, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot bietet.Und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist..

Produkt-Highlights

Polierpulver für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen Beschreibung Ermöglichen Sie die nächste Generation der Halbleiterleistung mit unseren Cerium-Oxid- (CeO2)-Polierpulvern. speziell für die chemische mechanische Planarisierung (CMP) in der IC-Fabrikation entwickelt,Unsere Pulver sind f...

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