MRR CeO2 정면 롤링 파우더
제품 상세정보
| 입자 크기: | 2.0±0.2μm | CAS 번호: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | 정지율: | 높은 |
| Ph 범위: | 7-10 | 공식화: | 맞춤형 |
| 강조하다 |
MRR 희토류 가루,융합 회로 희토류 가루 가루,시오2 (CeO2) 앞창세 닦기 파우더 |
||
제품 설명
융합 회로 제조용 닦기 파우더
설명
우리의시리즈 세리움 산화물 (CeO2) 닦기 파우더를 통해 차세대 반도체 성능을 가능하게 합니다.,우리의 파우더는 노드에 최적화되어 있습니다.
다층 연결과 수직 확장의 복잡성은 전례 없는 표면 평면성을 요구합니다.우리의 고활성 세리아 분말은 원자 수준 매끄럽고 고 선택성을 제공 웨이퍼 양과 장치 신뢰성을 극대화하기 위해 필요합니다.
성능 기준
평면성: <0.15nm의 표면 거칠성 (Ra) 값을 달성하여 극한 리토그래피와 고밀도 결합에 필요한 초평한 토대를 제공합니다.
나노 스케일 결함 감소: 우리의 진보 된 프로세스는 미세 스크래치와 표면 구멍을 사실상 제거하여 단분산 입자 크기 분포를 보장합니다.
높은 재고 제거율 (MRR): 고 순수 희토류 화학을 활용하여 우리의 파우더는 화학 결합 과정을 가속화하여 고용량 공장 환경에서 생산량을 증가시킵니다.
높은 순수 (>99%): 가장 엄격한 표준을 충족시키기 위해 정제됩니다.
기술 데이터
| 분자 공식 | CAS 번호 | CeO2 % | D50 (μm) | 외모 | 적용 |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 20.0±0.2 | 흰색 분말 | 융합 회로 제조 |
질문 및 답변
1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?
희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.
2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?
이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.
3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?
시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..
4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?
예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.
5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?
절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.
6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?
주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.
제품 하이라이트
융합 회로 제조용 닦기 파우더 설명 우리의시리즈 세리움 산화물 (CeO2) 닦기 파우더를 통해 차세대 반도체 성능을 가능하게 합니다.,우리의 파우더는 노드에 최적화되어 있습니다. 다층 연결과 수직 확장의 복잡성은 전례 없는 표면 평면성을 요구합니다.우리의 고활성 세리아 분말은 원자 수준 매끄럽고 고 선택성을 제공 웨이퍼 양과 장치 신뢰성을 극대화하기 위해 필요합니다. 성능 기준 평면성: 99%): 가장 엄격한 표준을 충족시키기 위해 정제됩니다. 기술 데이터 분자 공식 CAS 번호 CeO2 % D50 (μm) 외모 적용 CeO2 ...
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