"powder rare earth product"
光学ガラスの擦り取り除去剤を磨く 粉末 防風ガラスのためのセリウム酸化物
光学ガラスの製造のための磨き粉 記述について 光学ガラスの製造のためのリッセン磨き粉は 高品質の光学磨き材で 一貫した材料除去,優れた表面滑らかさを提供するために設計されています幅広い光学ガラスタイプで安定したプロセス性能制御された粒子の大きさ分布を持つ高純度磨材を用いて製成されたこの磨粉は,精密光学生産の要求を支えています. 中間や最終的な磨き段階の両方に設計されたこの製品は,製造者が高い光学透明性,低表面粗さ,高密度で高精度な光学ガラスの製造環境で,表面の質が重複できる. 主要 な 特徴 と 利点 高純度アブラシブ材料 低汚れ含有は,きれいな磨き動作と光学レベルの表面品質を保証します. 制...
セリアムオキシドセリア フォトマスク用風車ガラス磨き粉 空白宝石2.0μm
低欠陥セリウムオキシド フォトマスクの空白磨き用 記述 低欠陥セリウムオキシドは 半導体製造における フォトマスクのプリキュア・ポーリング用に 特別に作られています欠陥を最小限に抑え 完璧な仕上げを保証するこの高性能セリウム酸化物は 表面の質が重要な photomaskアプリケーションに理想的です. 卓越した磨き効率と表面の整合性を提供します.私たちのセリウムオキシドは,光学的な明晰度と次元精度の最高水準を保証します 写真マスクの空白処理. 主要な特徴: 低欠陥製剤: 粒子汚染と欠陥を減らすために設計されたこのセリウム酸化物は,非常に一貫して均質な表面仕上げを保証します.半導体光立光学に使用さ...
ODM セリウムオキシドベースの磨き粉末と化合物 磨き塗りスラム
超細かい電子表面のための磨きスラム 概要: 超細かい電子表面のための 磨きスラリーは 精密で高品質な仕上げを 提供するために 精密に設計されています先進的なセリウムオキシッドベースの技術でこのスローリーは,電子産業における超細表面の磨きのために設計されており,滑らかさ,透明性,最小限の欠陥を保証します. 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物: 最高級のセリウム酸化物で 製成されたスローリーは 超精細な磨きに 優れた性能を提供し鏡のような仕上げで,材料の除去効率が高い. 精密製法: 光学部品,半導体装置,その他の複雑な電子機器などの敏感な電子表面を磨くためにカスタム設計. 低汚染リスク:スローリー...
高純度ポリシング Ceo2 パウダースラー OLEDディスプレイ
OLEDディスプレイのための高純度磨きスラム記述についてOLEDディスプレイ用の高純度リッセン磨きスラーリーは,OLEDディスプレイ生産の厳しい要求を満たすために設計された先進的なセリウム酸化物ベースのスラーリです.超滑らかな仕上げのために設計されたOLEDパネルにとって極めて重要です 高性能の光学性能,色精度,長期的信頼性を保証します高画質のOLEDディスプレイに 必要な表面特性を 精密に調整するのに最適です スマートフォンやテレビや他の電子機器製造者は優れた光伝達と均一性を達成し,OLED技術の全体的な品質を向上させることができます. 主要 な 特徴 と 利点高純度セリウム酸化物リチェン・...
TREO オプティカルレンズ セリウムオキシド ポーリングパウダー 純度99%
セリウムオキシド 磨き粉 99% 純度 記述 純度99%のセリウムオキシド磨き粉で 完璧でプロフェッショナルな仕上げをこの高品質の磨料は,例外的な透明性と高輝度を実現するための理想的な解決策ですグラス,光学,そして様々な精密材料の表面に線紋がない. 私たちのセリウム酸化物は 99%の純度で 精密に処理されています この高純度で 化学的・機械的な作用が最適です磨き時間が早くなるために重要です光学製造,自動車修理,半導体生産などの業界における重要なアプリケーションで信頼性があり一貫した結果です 主要 な 特徴 と 利点 99% 保証された純度:要求の高いアプリケーションで最大限の効果と一貫したパフ...
化学 機械 セリウムオキシド 汽車用ガラス用スローリング粉
自動車用安全ガラス用セリウムオキシドの磨き粉 記述について 自動車用安全ガラスのリッヘンセリウム酸化物磨き粉は,自動車用安全ガラスの優れた透明性と滑らかさを提供するために設計された高性能磨き液です.特別にフロントガラスのために設計されたシリウムオキシド粉末は ガラスの表面を欠陥から解放し 理想的な視力 運転手の安全性 そして美学的な品質を保証します 擦り傷,酸化,または曇った自動車ガラスを磨いても 磨き粉は高品質な結果をもたらし 欠陥を取り除き 滑らかで磨かれた仕上げを残しますリヒンシウムのセリウム酸化粉末は,欠陥発生が少ない一貫した磨きを可能にします自動車ガラスの磨きには不可欠なソリューショ...
超透明のLCDパネルのためのシリウムオキシドポリシング化合物
超透明なLCDパネルのための磨き粉 記述 超清晰シリーズセリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉で 要求される高性能ディスプレイの 妥協のない透明性と鮮明な詳細を 提供します8Kと高伝導性のLCDパネルの次世代向けに設計されたこの粉末は,無欠陥表示に必要な原子レベルでの表面完璧を達成するために,高度な化学機械磨き (CMP) を利用しています. ディスプレイメーカーが ピクセル密度と明るさの限界を 押し広げていく中で 私たちの粉末は 表面の"霧"をなくし 光の出力を最大化するために 必要な安定性と精度を 提供しています 主要なパフォーマンスメリット 最大光学伝達力: 純正で超滑らかな表面を手に入れ...
スクラッチ削減ガラスポリシングパスタ 3ミクロンセリウム酸化物ベースの粉末
スマートフォンカバーガラス用 スクラッチ削減磨き粉記述についてスマートフォンカバーガラス用リッヘン・スクラッチ・リデクション・ポーリング・パウダーは,スマートフォンカバーガラスに滑らかで,スクラッチのない仕上げを提供するために設計された高性能セリウム酸化物ベースの粉末です.サファイアガラスで作業するかどうかスマートフォン用ガラス材料などです この磨き粉は,モバイルデバイスの画面の光学透明性と耐久性を高めるために特別に作られています表面の傷や欠陥の出現を著しく減少させる.ガラスの表面が 透明で輝く仕上げを保ちますデバイスの整体的な視覚品質とタッチスクリーン応答性を向上させ,同時にデバイスの美学的...
半導体ガラスのための精細平面化セリウム酸化物スラム
半導体ガラスの細い平面化のためのスラム 記述について 半導体ガラスの微細平面化のためのリッセンセリウムベースの磨きスラーリーは高純度で半導体製造における先進的なグラス平面化プロセスのために設計された使用準備済みのスラム精密に制御されたセリウムオキシド粒子で作られ,このスローリーは優れた表面平ら性,低粗さ,最小限の欠陥生成を提供します.現代の半導体およびマイクロ電子機器の生産の厳しい要求を満たす. これは,キャリアグラス,インターポーザーグラス,およびディスプレイ関連半導体グラスコンポーネントを含む幅広い半導体グラス基板を磨くのに適しています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウムオキシド磨...
シリコン・ウェーバーのための3ミクロン製のグラス・ポーリング・ペスト粉末
シリコン・ウェーファー製造用 パーソナライズド・ポーリング・パウダー 記述について Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingこの粉末は半導体産業の厳格な要求を満たすために設計され,材料の除去速度,表面...
CMP オプティカルガラススラッシュを磨く 液晶ディスプレイのためのCeO2粉
液晶ディスプレイ製造のための磨きスラム 記述について 光学ガラスの製造のためのリッセン磨き粉は 高品質の光学磨き材で 一貫した材料除去,優れた表面滑らかさを提供するために設計されています幅広い光学ガラスタイプで安定したプロセス性能制御された粒子の大きさ分布を持つ高純度磨材を用いて製成されたこの磨粉は,精密光学生産の要求を支えています. 中間や最終的な磨き段階の両方に設計されたこの製品は,製造者が高い光学透明性,低表面粗さ,高密度で高精度な光学ガラスの製造環境で,表面の質が重複できる. 主要 な 特徴 と 利点 高純度アブラシブ材料 低汚れ含有は,きれいな磨き動作と光学レベルの表面品質を保証し...
高純度 La2o3 ランタン酸化物粉 3n 4n 5n 光学ガラス用
高純度ランタンオキシド (LA2O3) 粉末 ((3N5/4N/5N) /光学ガラス,触媒,リンゴのための陶器類 高純度ランタン酸化物 分子式:La2O3外見:高純度ランタン酸化物は白い粉末である. 適用: 3 方向催化剤,ガラス,陶器,電子産業で使用され,高精度光学ガラスおよび光学繊維の製造にも使用されます.電子産業では,陶器コンデンサターとピエゾ電気陶器のドーパントとして機能するさらに,ランタンボリドの生産のための原材料として,および石油分離および精製のための触媒として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 グレード La2O3-3N5B La2O3-4N5B La2O3-5NB / ...
