光学製造の効率化のための高除去率セリウムオキシド磨き粉
製品詳細
| 純度: | ≥99.95% | D50: | 1.5～2.5μm |
|---|---|---|---|
| 互換性: | ガラスおよび光学基板 | 推奨される固形分含有量: | 5 ～ 15 wt% スラリー |
| 外観: | 淡黄色の粉末 | 分散安定性: | 高い |
| ハイライト |
光学用セリウムオキシドの磨き粉,高除去率の磨き粉,稀土光学磨き粉 |
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製品の説明
光学製造の効率化のための高除去率セリウムオキシド磨き粉
製品概要
高除去率セリウムオキシド磨き粉は,光学表面品質を犠牲にせずに高出力を要求する生産環境のために設計されています.最適化された粒子の構造は,制御された表面仕上げ性能を維持しながら,磨き効率を向上させる.
費用対効果の高い大規模光学部品の製造を 支援しています
主要 な 特徴
- 物質除去率が高い (MRR)
- 速度と表面の仕上がりの間の優れたバランス
- 磨きサイクル時間の短縮
- 安定した懸垂動作
- 連続産業用磨きラインに適している
- プロセス生産性の向上
粒子の大きさの分布について
申請
- 大量生産する光学レンズ
- 平面光学ガラスの磨き
- ディスプレイとフォトニクス基板
- 光窓の製造
- 工業用光学の生産ライン
よく 聞かれる 質問
Q1: 表面の質は?
表面の荒さも Ra 1 nm 以下で,プロセスの条件に応じて達成できる.
Q2:粉末はスローに変換できますか?
粉末は 離子化水に溶け込み パーソナライズされた磨き液を用意します
Q3:自動磨き機に適していますか?
はい,手動とCNC光学磨きシステムの両方に最適化されています.
製品 ハイライト
光学製造の効率化のための高除去率セリウムオキシド磨き粉 製品概要 高除去率セリウムオキシド磨き粉は,光学表面品質を犠牲にせずに高出力を要求する生産環境のために設計されています.最適化された粒子の構造は,制御された表面仕上げ性能を維持しながら,磨き効率を向上させる. 費用対効果の高い大規模光学部品の製造を 支援しています 主要 な 特徴 物質除去率が高い (MRR) 速度と表面の仕上がりの間の優れたバランス 磨きサイクル時間の短縮 安定した懸垂動作 連続産業用磨きラインに適している プロセス生産性の向上 粒子の大きさの分布について 申請 大量生産する光学レンズ 平面光学ガラスの磨き ディスプレイ...
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