광학 제조 효율성을 위한 고제거율 산화세륨 연마 분말
제품 상세정보
| 청정: | ≥ 99.95% | D50: | 1.5~2.5μm |
|---|---|---|---|
| 호환성: | 유리 및 광학 기판 | 추천 솔리드 콘텐츠: | 5 – 15 중량% 슬러리 |
| 모습: | 밝은 노란색 분말 | 분산 안정성: | 높은 |
| 강조하다 |
광학용 세리움 산화물 닦는 분말,고속 제거율 닦는 분말,소소한 지질 광학 닦는 분말 |
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제품 설명
광학 제조 효율성을 위한 고제거율 산화세륨 연마 분말
제품개요
고제거율 산화세륨 연마 분말은 광학 표면 품질을 저하시키지 않고 높은 처리량이 요구되는 생산 환경을 위해 설계되었습니다. 최적화된 입자 구조는 제어된 표면 마감 성능을 유지하면서 연마 효율성을 향상시킵니다.
비용 효율적인 대규모 광학 부품 제조를 지원합니다.
주요 특징
- 높은 재료 제거율(MRR)
- 속도와 표면 마감 사이의 탁월한 균형
- 연마 사이클 시간 단축
- 안정적인 서스펜션 동작
- 연속적인 산업용 연마 라인에 적합
- 공정 생산성 향상
입자 크기 분포tion
응용
- 광학렌즈 양산
- 평면 광학 유리 연마
- 디스플레이 및 포토닉스 기판
- 광학창 제조
- 산업용 광학 생산 라인
자주 묻는 질문
Q1: 어떤 표면 품질을 얻을 수 있습니까?
공정 조건에 따라 Ra 1 nm 이하의 표면 거칠기가 달성될 수 있습니다.
Q2: 분말을 슬러리로 변환할 수 있나요?
예. 분말은 탈이온수에 쉽게 분산되어 맞춤형 연마 슬러리를 준비합니다.
Q3: 자동 연마기에 적합합니까?
예, 수동 및 CNC 광학 연마 시스템 모두에 최적화되어 있습니다.
제품 하이라이트
광학 제조 효율성을 위한 고제거율 산화세륨 연마 분말 제품개요 고제거율 산화세륨 연마 분말은 광학 표면 품질을 저하시키지 않고 높은 처리량이 요구되는 생산 환경을 위해 설계되었습니다. 최적화된 입자 구조는 제어된 표면 마감 성능을 유지하면서 연마 효율성을 향상시킵니다. 비용 효율적인 대규모 광학 부품 제조를 지원합니다. 주요 특징 높은 재료 제거율(MRR) 속도와 표면 마감 사이의 탁월한 균형 연마 사이클 시간 단축 안정적인 서스펜션 동작 연속적인 산업용 연마 라인에 적합 공정 생산성 향상 입자 크기 분포tion 응용 광학렌즈 양산 ...
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