Cerium-Oxid-Polierpulver mit hoher Entfernung für eine effizientere optische Herstellung
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,95% | D50: | 1,5 – 2,5 μm |
|---|---|---|---|
| Kompatibilität: | Glas und optische Substrate | Empfohlener fester Inhalt: | 5 – 15 Gew.-% Aufschlämmung |
| Aussehen: | Hellgelbes Pulver | Stabilität der Dispersion: | Hoch |
| Hervorheben |
Cerium-Oxid-Polierpulver für die Optik,Polster mit hoher Entfernung,Optisches Polierpulver für seltene Erden |
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Produkt-Beschreibung
Ceroxid-Polierpulver mit hoher Abtragsrate für die Effizienz der optischen Fertigung
Produktübersicht
Ceroxid-Polierpulver mit hoher Abtragsrate ist für Produktionsumgebungen konzipiert, die einen hohen Durchsatz ohne Einbußen bei der optischen Oberflächenqualität erfordern. Die optimierte Partikelstruktur verbessert die Poliereffizienz und sorgt gleichzeitig für eine kontrollierte Oberflächenbearbeitung.
Es unterstützt die kostengünstige Herstellung optischer Komponenten in großem Maßstab.
Hauptmerkmale
- Hohe Materialabtragsleistung (MRR)
- Hervorragende Balance zwischen Geschwindigkeit und Oberflächengüte
- Reduzierte Polierzykluszeit
- Stabiles Federungsverhalten
- Geeignet für kontinuierliche industrielle Polierlinien
- Verbesserte Prozessproduktivität
Partikelgrößenverteilungtion
Anwendungen
- Optische Linsen in Massenproduktion
- Flaches Polieren von optischem Glas
- Display- und Photonik-Substrate
- Herstellung optischer Fenster
- Produktionslinien für Industrieoptik
Häufig gestellte Fragen
F1: Welche Oberflächenqualität kann erreicht werden?
Abhängig von den Prozessbedingungen kann eine Oberflächenrauheit unter Ra 1 nm erreicht werden.
F2: Kann das Pulver in eine Aufschlämmung umgewandelt werden?
Ja. Das Pulver lässt sich leicht in entionisiertem Wasser verteilen, um eine individuelle Polieraufschlämmung herzustellen.
F3: Ist es für automatisierte Poliermaschinen geeignet?
Ja, es ist sowohl für manuelle als auch CNC-optische Poliersysteme optimiert.
Produkt-Highlights
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