AR導波路ガラス用高純度酸化セリウム研磨粉
製品詳細
| 主成分: | CeO₂ | CeO₂ 純度: | ≥99.5% |
|---|---|---|---|
| 粒子サイズ: | 0.2～0.8μm | 粒子分布: | 狭い/制御された |
| 応用: | 超微細光学研磨 | 基板: | 光学・導波路ガラス |
| ハイライト |
ARガラス用酸化セリウム研磨粉,高純度酸化セリウム粉末,導波路用希土類研磨粉 |
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製品の説明
AR波導ガラス用高純度セリウム酸化物ポリシング粉末
製品概要
高純度セリウムオキシド磨き粉は,拡張現実システムで使用されるAR波導体ガラスおよび光学基板の精密仕上げのために策定されています.
AR波導体は,効率的な光伝達をサポートし,光学散乱を最小限に抑えるために注意深く制御された光学表面を必要とします.適正 な 磨き 材料 は,光学 製品 製造 者 が 磨き 効率 を 維持 し て も 均等 な 表面 質 を 達成 する こと に 役立ち ます.
この製品は,ガラスの波導体,光学コンビナー, difraktive 光学要素,その他の先進AR 光学部品を加工するメーカーに適しています.
主要 な 特徴
- 高純度セリウム酸化物
- 制御された不純度レベル
- 粒子の大きさの分布が一貫している
- 高度な磨き活動
- 光学用ガラスに適している
- 細工性能が良い
- 表面欠陥制御のために設計された
- 精密光学製造に適した
- パーソナライズされた純度と粒子の大きさ
粒子の大きさの分布について
申請
- AR波導ガラス
- 拡張現実レンズ
- オプティカル・コンビナー
- 振幅光学要素
- 近視ディスプレイ部品
- ガラスの光学基板
- 精密光学部品
- 光子ガラスの部品
Q&A
Q:高純度セリウムオキシドがAR波導体磨きに重要なのはなぜですか?
A: 高純度な材料は,望ましくない不純物を最小限に抑え,特に要求の高い光学製造プロセスにおいて,より一貫した磨き性能をサポートすることができます.
Q:セリウムオキシードで磨くことができる波導体の種類は?
A:セリウム酸化物は,ガラスベースの様々な波導体基板に評価することができます.最適なグレードは,特定のガラス組成と製造プロセスに依存します.
Q: 光学用品の高純度品質を供給できますか?
A: はい. 制御された化学組成の高純度グレードは,顧客の要求に応じて供給できます.
Q: 粉末は使用準備のスローに変換できますか?
A: はい. 粉末から,お客様の設備とプロセス要件に応じて,適切な磨きスローラを開発できます.
製品 ハイライト
AR波導ガラス用高純度セリウム酸化物ポリシング粉末 製品概要 高純度セリウムオキシド磨き粉は,拡張現実システムで使用されるAR波導体ガラスおよび光学基板の精密仕上げのために策定されています. AR波導体は,効率的な光伝達をサポートし,光学散乱を最小限に抑えるために注意深く制御された光学表面を必要とします.適正 な 磨き 材料 は,光学 製品 製造 者 が 磨き 効率 を 維持 し て も 均等 な 表面 質 を 達成 する こと に 役立ち ます. この製品は,ガラスの波導体,光学コンビナー, difraktive 光学要素,その他の先進AR 光学部品を加工するメーカーに適しています. 主要 ...
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