AR/VRフォトニクス用精密稀土磨き粉
製品詳細
| 主成分: | CeO₂ | CeO₂ 純度: | ≧99.0% / ≧99.5% |
|---|---|---|---|
| 粒子サイズ: | 0.1～1.5μm | 粒子分布: | 狭い/制御された |
| 応用: | AR/VR & フォトニクス | 基板: | 光学・導波路ガラス |
| ハイライト |
AR/VR用の稀土の磨き粉,精密希土類研磨材,フォトニクス ポリシング パウダー 保証付き |
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製品の説明
AR/VRフォトニクス用精密稀土磨き粉
製品概要
精密稀土磨き粉は,AR/VRフォトニクス,光波導体,マイクロ光学,および高度な近眼ディスプレイコンポーネントのための専門磨き材料です.
制御された粒子の大きさで 作り出せるのです光学製造の異なる段階に対応する純度と磨き特性 (中間磨きから最終表面仕上げまで).
材料の一貫した除去,高質の表面,次の世代のAR/VR光学システムのためのプロセス安定性とカスタマイズされた磨き性能.
主要 な 特徴
- 稀土基の磨き技術
- セリウムオキシドと稀土の定製製剤
- 制御された粒子の形状と分布
- 高度な磨き効率
- 精密光学仕上げに適した
- 適正なスローラー製剤の互換性
- 細工や最終的な磨きをサポートする
- ガラスと特殊光学基板に適している
- カスタム製剤と粒子のサイズオプション
粒子の大きさの分布について
申請
- AR 光波導体
- VR オプティカル コンポーネント
- AR/VRレンズ
- 近視ディスプレイ光学
- オプティカル・コンビナー
- 振幅光学要素
- マイクロ光学部品
- フォトン装置
- 精密光学ガラス
- 先進的なディスプレイ光学
Q&A
Q: 稀土の磨き粉を 光子学に適しているのは?
A:稀有地基の磨き材料,特にセリウム酸化物は,高品質の表面仕上げをサポートしながら,多くのガラスや光学基板の効率的な磨きを提供することができます.
Q:この粉末は ARとVRの両方の光学に使えますか?
A: そうです.ARとVRの光学部品の基板と必要な表面品質に応じて異なるグレードを選択できます.
Q: 磨き特性はカスタマイズできますか?
A: はい. 粒子の大きさ,粒子の分布,純度,その他の特徴は,顧客の磨きプロセスに応じて最適化できます.
Q: 磨き質を推奨するために必要な情報は?
A: 最も有用な情報には,基板の組成,表面の初期状態,磨き機,パッドの種類,スローの濃度,圧力,磨き速度,対象除去率と要求される表面品質.
製品 ハイライト
AR/VRフォトニクス用精密稀土磨き粉 製品概要 精密稀土磨き粉は,AR/VRフォトニクス,光波導体,マイクロ光学,および高度な近眼ディスプレイコンポーネントのための専門磨き材料です. 制御された粒子の大きさで 作り出せるのです光学製造の異なる段階に対応する純度と磨き特性 (中間磨きから最終表面仕上げまで). 材料の一貫した除去,高質の表面,次の世代のAR/VR光学システムのためのプロセス安定性とカスタマイズされた磨き性能. 主要 な 特徴 稀土基の磨き技術 セリウムオキシドと稀土の定製製剤 制御された粒子の形状と分布 高度な磨き効率 精密光学仕上げに適した 適正なスローラー製剤の互換性 細工...
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