AR/VR オプティカルコンポーネントのためのセリウムオキシドの磨き粉
製品詳細
| 主成分: | CeO₂ | CeO₂ 純度: | ≧99.0% / ≧99.5% |
|---|---|---|---|
| 粒子サイズ: | 0.2~1.0μm | 粒子分布: | 制御された |
| 研磨ステージ: | 精密・最終研磨 | 基板: | 光学ガラス・特殊ガラス |
| ハイライト |
AR/VR用のセリウム酸化物磨き粉,稀土光学磨き粉,VRレンズ用セリウム酸化物粉 |
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製品の説明
AR/VR光学部品用酸化セリウム研磨粉
製品概要
酸化セリウム研磨粉は、AR/VR光学部品、拡張現実(AR)導波路、仮想現実(VR)光学、および先進ディスプレイシステムの製造用に設計された精密研磨材です。
この研磨粉は、光学ガラスおよび特殊光学基板に対して、制御された材料除去と高品質な表面仕上げを提供します。表面の平滑性、光学的な透明度、低表面欠陥、および寸法の一貫性が重要な、精密研磨および最終仕上げ工程に適しています。
AR/VR光学部品の製造において、適切に選択された酸化セリウムグレードは、コンパクトで高度に統合された光学システム用の高品質な光学表面の製造をサポートできます。主な特徴
高純度酸化セリウムベースの配合
- 制御された粒子径分布
- 光学ガラスに対する高い研磨効率
- 精密研磨および最終仕上げに適しています
- 優れた表面仕上げ能力
- 低い表面粗さをサポート
- 良好なスラリー分散特性
- 自動研磨プロセスに適しています
- 粒子径と研磨性能はカスタマイズ可能です
- 粒子径分布
用途AR光学導波路

VR光学部品
- 拡張現実レンズ
- 光学コンバイナ
- マイクロ光学部品
- ディスプレイ光学
- 精密光学ガラス
- 近接ディスプレイ光学
- 光学センサー部品
- Q&A
- Q: AR/VR光学研磨に酸化セリウムが使用されるのはなぜですか?
A: 酸化セリウムは、多くの光学ガラス基板に対して効果的な研磨性能を発揮し、グレードとプロセス条件が適切に選択されれば、高品質な表面仕上げを実現できます。
Q: この研磨粉は光学導波路に使用できますか?
A: はい。適切な微細または超微細酸化セリウムグレードは、光学導波路基板および関連光学部品の研磨に使用できます。
Q: 粒子径はカスタマイズできますか?
A: はい。粒子径分布は、基板特性、研磨装置、および目標表面品質に応じて調整できます。
Q: 大量生産のAR/VRに適していますか?
A: この材料は、安定したスラリー調製と連続研磨プロセス用に配合できます。生産への適合性は、プロセス試験を通じて確認する必要があります。
製品 ハイライト
AR/VR光学部品用酸化セリウム研磨粉 製品概要 酸化セリウム研磨粉は、AR/VR光学部品、拡張現実(AR)導波路、仮想現実(VR)光学、および先進ディスプレイシステムの製造用に設計された精密研磨材です。 この研磨粉は、光学ガラスおよび特殊光学基板に対して、制御された材料除去と高品質な表面仕上げを提供します。表面の平滑性、光学的な透明度、低表面欠陥、および寸法の一貫性が重要な、精密研磨および最終仕上げ工程に適しています。 AR/VR光学部品の製造において、適切に選択された酸化セリウムグレードは、コンパクトで高度に統合された光学システム用の高品質な光学表面の製造をサポートできます。主な特徴 高純...
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