AR/VR 광 부품용 세리움 산화물 닦기 분말
제품 상세정보
| 주요 구성 요소: | CEO₂ | CeO2 순도: | ≥99.0% / ≥99.5% |
|---|---|---|---|
| 입자 크기: | 0.2~1.0μm | 입자 분포: | 통제됨 |
| 연마단계: | 미세/최종 연마 | 기판: | 광학유리/특수유리 |
| 강조하다 |
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제품 설명
AR/VR 광학 부품용 산화세륨 연마 분말
제품 개요
산화세륨 연마 분말은 AR/VR 광학 부품, 증강 현실 웨이브가이드, 가상 현실 광학 및 고급 디스플레이 시스템 제조를 위해 설계된 정밀 연마재입니다.
이 연마 분말은 광학 유리 및 특수 광학 기판에 대해 제어된 재료 제거와 고품질 표면 마감을 제공합니다. 표면 평활도, 광학 선명도, 낮은 표면 결함 및 치수 일관성이 중요한 미세 및 최종 연마 공정에 적합합니다.
AR/VR 광학 제조의 경우 적절하게 선택된 산화세륨 등급은 컴팩트하고 고도로 통합된 광학 시스템을 위한 고품질 광학 표면 생산을 지원할 수 있습니다..
주요 특징
- 고순도 산화세륨 기반 제형
- 제어된 입자 크기 분포
- 광학 유리에 대한 높은 연마 효율
- 정밀 및 최종 연마에 적합
- 우수한 표면 마감 능력
- 낮은 표면 거칠기 지원
- 우수한 슬러리 분산 특성
- 자동 연마 공정에 적합
- 입자 크기 및 연마 성능 맞춤 가능
입자 크기 분포

응용 분야
- AR 광학 웨이브가이드
- VR 광학 부품
- 증강 현실 렌즈
- 광학 컴바이너
- 마이크로 광학 부품
- 디스플레이 광학
- 정밀 광학 유리
- 근안 디스플레이 광학
- 광학 센서 부품
Q&A
Q: AR/VR 광학 연마에 산화세륨을 사용하는 이유는 무엇입니까?
A: 산화세륨은 많은 광학 유리 기판에 대해 효과적인 연마 성능을 제공하며, 등급과 공정 조건을 적절하게 선택하면 고품질 표면 마감을 달성할 수 있습니다.
Q: 연마 분말을 광학 웨이브가이드에 사용할 수 있습니까?
A: 예. 적절한 미세 또는 초미세 산화세륨 등급은 광학 웨이브가이드 기판 및 관련 광학 부품 연마에 사용할 수 있습니다.
Q: 입자 크기를 맞춤 설정할 수 있습니까?
A: 예. 입자 크기 분포는 기판 특성, 연마 장비 및 목표 표면 품질에 따라 조정할 수 있습니다.
Q: 고부가가치 AR/VR 생산에 적합합니까?
A: 이 재료는 안정적인 슬러리 준비 및 연속 연마 공정을 위해 제형화될 수 있습니다. 생산 적합성은 공정 시험을 통해 확인해야 합니다.
제품 하이라이트
AR/VR 광학 부품용 산화세륨 연마 분말 제품 개요 산화세륨 연마 분말은 AR/VR 광학 부품, 증강 현실 웨이브가이드, 가상 현실 광학 및 고급 디스플레이 시스템 제조를 위해 설계된 정밀 연마재입니다. 이 연마 분말은 광학 유리 및 특수 광학 기판에 대해 제어된 재료 제거와 고품질 표면 마감을 제공합니다. 표면 평활도, 광학 선명도, 낮은 표면 결함 및 치수 일관성이 중요한 미세 및 최종 연마 공정에 적합합니다. AR/VR 광학 제조의 경우 적절하게 선택된 산화세륨 등급은 컴팩트하고 고도로 통합된 광학 시스템을 위한 고품질 광학 ...
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