光導波路用超微細希土類研磨粉
製品詳細
| 主成分: | CeO₂ | CeO₂ 純度: | ≥99.5% |
|---|---|---|---|
| 粒子サイズ: | 0.1～0.5μm | 粒子分布: | 狭い/制御された |
| 応用: | 超微細光学研磨 | 基板: | 光学ガラス・特殊ガラス |
| ハイライト |
超微細希土類研磨粉,光導波路用希土類研磨粉,光導波路研磨粉 |
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製品の説明
光学波導体用超細質稀土磨き粉
製品概要
極細稀土磨き粉は,光波導体と高度な光子部品の高精度磨きのために開発されています.制御された細粒子の特性により,細細と最終的な磨き過程で精密な物質除去が可能です..
光波導体は,表面の欠陥や荒さ,汚染が光学性能に影響を与えるため,高度に制御された光学表面を必要とします.適切に 設計 さ れ た 稀土 の 磨き粉 は,ガラスの 波導体 の 仕上げ に 重要 な 役割 を 果たし ます,平面光学部品,光子装置,AR波導体基板.
主要 な 特徴
- 超細粒子の特性
- 制御された粒子の大きさ分布
- 精密光学仕上げ用に設計された
- 細工や最終的な磨きに適している
- 表面加工能力が高い
- 磨きプロセスの良好な制御
- 光学ガラスと特殊基板に適している
- 溶液との良好な相容性
- パーソナライズされた粒子のサイズ分布が利用可能
粒子の大きさの分布について
申請
- 光波導体
- AR波導基板
- 平面光学部品
- フォトニック統合部品
- ガラスの波導体
- オプティカル・コンビナー
- マイクロ光学部品
- 精密フォトニクス
- 近視ディスプレイ光学
Q&A
Q: 光学波導体に超細質の磨き粉がどんな利点があるのでしょうか?
A: 細粒子は,精密仕上げの際に材料の除去をよりよく制御することができ,高品質の光学表面が必要な場合に有用です.
Q: この素材は AR 波導体に使えますか?
A: はい.ガラスベースのAR波導体基板と関連した光学コンポーネントについて評価できます.
Q: 小さい粒子の大きさは 常によりよい磨きを 与えるのでしょうか?
A: 必ずしもそうではない.最適な粒子の大きさは,基板の硬さ,磨き設備,パッド,スラム濃度,必要な除去速度に依存する.
Q: 特定の波導体基板のグレードを 開発できますか?
A: はい.顧客の基板と磨きプロセスパラメータに基づいてカスタマイズされた開発を検討できます.
製品 ハイライト
光学波導体用超細質稀土磨き粉 製品概要 極細稀土磨き粉は,光波導体と高度な光子部品の高精度磨きのために開発されています.制御された細粒子の特性により,細細と最終的な磨き過程で精密な物質除去が可能です.. 光波導体は,表面の欠陥や荒さ,汚染が光学性能に影響を与えるため,高度に制御された光学表面を必要とします.適切に 設計 さ れ た 稀土 の 磨き粉 は,ガラスの 波導体 の 仕上げ に 重要 な 役割 を 果たし ます,平面光学部品,光子装置,AR波導体基板. 主要 な 特徴 超細粒子の特性 制御された粒子の大きさ分布 精密光学仕上げ用に設計された 細工や最終的な磨きに適している 表面加工能力...
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