TFT-LCDガラス基板のための高純度セリウムオキシド磨き粉
製品詳細
| CeO₂ 純度: | ≥99.9% | TREO: | ≥99.0％ |
|---|---|---|---|
| D50 粒子径: | 0.8～1.5μm | 外観: | 淡黄色の粉末 |
| pH（スラリー）: | 6-9 | 包装: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
TFT-LCD用酸化セリウム研磨粉、高純度酸化セリウム粉末、ガラス用希土類研磨粉,high-purity cerium oxide powder,rare earth polishing powder for glass |
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製品の説明
TFT-LCDガラス基板のための高純度セリウムオキシド磨き粉
製品概要
高純度セリウムオキシドの磨き粉は TFT-LCDガラス基板の超精密仕上げのために設計されています.微小な傷跡が少なくなります高度なディスプレイ製造環境に適しています
主要 な 特徴
- 超高純度セリア製剤
- 制御された表面荒さで優れた除去率
- 低欠陥性能 (傷/掘り)
- 一貫した磨きのために安定した粒子の大きさ分布
- 自動化CMP (化学機械磨き) システムと互換性
粒子の大きさの分布について
申請
- TFT-LCDガラス基板の磨き
- 平面ディスプレイ (FPD) の製造
- 光学級のガラスの仕上げ
- 半導体ディスプレイ部品
よく 聞かれる 質問
Q: TFT-LCDの磨きにはなぜセリウムオキシードが使われますか?
A: シリカ基のガラスと独特の化学機械的な相互作用を備えており,高効率で欠陥が少ない磨きを可能にします.
Q: 粒子の大きさはカスタマイズできますか?
A: はい,粒子分布はプロセス要件に基づいて調整できます.
製品 ハイライト
TFT-LCDガラス基板のための高純度セリウムオキシド磨き粉 製品概要 高純度セリウムオキシドの磨き粉は TFT-LCDガラス基板の超精密仕上げのために設計されています.微小な傷跡が少なくなります高度なディスプレイ製造環境に適しています 主要 な 特徴 超高純度セリア製剤 制御された表面荒さで優れた除去率 低欠陥性能 (傷/掘り) 一貫した磨きのために安定した粒子の大きさ分布 自動化CMP (化学機械磨き) システムと互換性 粒子の大きさの分布について 申請 TFT-LCDガラス基板の磨き 平面ディスプレイ (FPD) の製造 光学級のガラスの仕上げ 半導体ディスプレイ部品 よく 聞かれる 質...
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