高級TFT-LCD製造用低欠陥セリウムオキシド磨き材料
製品詳細
| CeO₂ 純度: | ≥99.9% | TREO: | ≥99.0％ |
|---|---|---|---|
| D50 粒子径: | 1.0～2.0μm | 外観: | 淡黄色の粉末 |
| pH（スラリー）: | 6-9 | かさ密度: | 0.8 ～ 1.2 g/cm3 |
| ハイライト |
低欠陥セリウムオキシドの磨き粉,セリウムオキシド TFT-LCDの製造材料,LCD用の稀土の磨き粉 |
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製品の説明
高級TFT-LCD製造用低欠陥セリウムオキシド磨き材料
製品概要
特別に設計されたセリウムオキシド磨き材で 次世代の TFT-LCD 製造用に設計され,欠陥率が非常に低く,生産効率が高いことに焦点を当てています.
主要 な 特徴
- 超低傷害や霧の性能
- 大量生産のための高い磨き効率
- 泥沼システムにおける強い化学的安定性
- 高出力ディスプレイ製造に最適化
- バッチからバッチに一貫した品質
粒子の大きさの分布について
申請
- TFT-LCD製造ライン
- 大型ディスプレイガラスの磨き
- 高解像度パネルの生産
- 先進的なディスプレイ基板処理
よく 聞かれる 質問
Q: この製品が 大量生産に適しているのは?
A: 安定性,欠陥発生率が低く,取り除く速度は一貫しているため,工業規模での生産が可能です.
Q: 磨き後の清掃の必要性を軽減していますか?
A: はい,低残留剤 製剤は下流の清掃負荷を最小限に抑えます.
製品 ハイライト
高級TFT-LCD製造用低欠陥セリウムオキシド磨き材料 製品概要 特別に設計されたセリウムオキシド磨き材で 次世代の TFT-LCD 製造用に設計され,欠陥率が非常に低く,生産効率が高いことに焦点を当てています. 主要 な 特徴 超低傷害や霧の性能 大量生産のための高い磨き効率 泥沼システムにおける強い化学的安定性 高出力ディスプレイ製造に最適化 バッチからバッチに一貫した品質 粒子の大きさの分布について 申請 TFT-LCD製造ライン 大型ディスプレイガラスの磨き 高解像度パネルの生産 先進的なディスプレイ基板処理 よく 聞かれる 質問 Q: この製品が 大量生産に適しているのは?A: 安定...
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