Material de polimento de óxido de cério de baixo defeito para fabricação avançada de TFT-LCD
Detalhes do produto
| Pureza CeO₂: | ≥99,9% | TREO: | ≥99,0% |
|---|---|---|---|
| Tamanho de partícula D50: | 1,0–2,0 μm | Aparência: | Pó Amarelo Claro |
| pH (pasta): | 6-9 | Densidade aparente: | 0,8–1,2 g/cm³ |
| Destacar |
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Descrição do produto
Material de polimento de óxido de cério com baixo defeito para fabricação avançada de TFT-LCD
Visão geral do produto
Material de polimento de óxido de cério especialmente projetado para fabricação de TFT-LCD de próxima geração, com foco em taxas de defeitos ultrabaixas e alta eficiência de produção.
Principais recursos
- Desempenho ultrabaixo de riscos e neblina
- Alta eficiência de polimento para produção em massa
- Forte estabilidade química em sistemas de lama
- Otimizado para fabricação de displays de alto rendimento
- Qualidade consistente lote a lote
Distribuição de tamanho de partículação
Aplicações
- Linhas de fabricação TFT-LCD
- Polimento de vidro de tela de tamanho grande
- Produção de painéis de alta resolução
- Processamento avançado de substrato de exibição
Perguntas frequentes
P: O que torna este produto adequado para fabricação em grandes volumes?
R: Sua estabilidade, baixa geração de defeitos e taxa de remoção consistente suportam a produção em escala industrial.
P: Isso reduz os requisitos de limpeza pós-polimento?
R: Sim, a formulação com baixo teor de resíduos minimiza a carga de limpeza posterior.
Destaques do Produto
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