Material de pulido de óxido de cerio con pocos defectos para la fabricación avanzada de TFT-LCD
Detalles del producto
| Pureza del CeO₂: | ≥99,9% | TREO: | ≥99.0% |
|---|---|---|---|
| Tamaño de partícula D50: | 1,0–2,0 µm | Apariencia: | Polvo amarillo claro |
| pH (lodo): | 6-9 | Densidad aparente: | 0,8–1,2 g/cm³ |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Material de pulido de óxido de cerio de bajo defecto para la fabricación avanzada de TFT-LCD
Resumen del producto
Material de pulido de óxido de cerio especialmente diseñado para la fabricación de TFT-LCD de próxima generación, centrándose en tasas de defectos ultrabajas y alta eficiencia de producción.
Características clave
- Rendimiento de arañazos y brumas muy bajo
- Alta eficiencia de pulido para la producción en masa
- Fuerte estabilidad química en los sistemas de estiércol
- Optimizado para la fabricación de pantallas de alto rendimiento
- Calidad constante de lote a lote
Distribución del tamaño de las partículasEl
Aplicaciones
- Líneas de fabricación de TFT-LCD
- Polido de vidrio para pantallas de gran tamaño
- Producción de paneles de alta resolución
- Procesamiento avanzado del sustrato de visualización
Preguntas frecuentes
P: ¿Qué hace que este producto sea adecuado para la fabricación de grandes volúmenes?
R: Su estabilidad, baja generación de defectos y tasa de eliminación constante apoyan la producción a escala industrial.
P: ¿Reduce los requisitos de limpieza después del pulido?
R: Sí, la formulación baja en residuos minimiza la carga de limpieza aguas abajo.
Lo más destacado del producto
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