Materiale lucidante all'ossido di cerio a basso difetto per la produzione avanzata di TFT-LCD
Dettagli del prodotto
| Purezza del CeO₂: | ≥99,9% | TREO: | ≥99,0% |
|---|---|---|---|
| Dimensione delle particelle D50: | 1,0–2,0 μm | Aspetto: | Polvere giallo chiaro |
| pH (liquame): | 6-9 | Densità apparente: | 0,8–1,2 g/cm³ |
| Evidenziare |
polvere di lucidatura a basso difetto di ossido di cerio,materiale di fabbricazione TFT-LCD di ossido di cerio,polvere di lucidatura a terre rare per LCD |
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Descrizione di prodotto
Materiale di lucidatura ad ossido di cerio a basso difetto per la produzione avanzata di TFT-LCD
Visualizzazione del prodotto
Materiale di lucidatura ad ossido di cerio appositamente progettato per la produzione di TFT-LCD di nuova generazione, concentrandosi su tassi di difetto ultra-bassi e efficienza di produzione ad alto throughput.
Caratteristiche chiave
- Performance di graffio e foschia ultra-bassi
- Alta efficienza di lucidatura per la produzione in serie
- Forte stabilità chimica nei sistemi di scarico
- Ottimizzato per la produzione di display ad alto rendimento
- Qualità costante da lotto a lotto
Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione
Applicazioni
- Linee di produzione TFT-LCD
- lucidatura di vetri per schermi di grandi dimensioni
- Produzione di pannelli ad alta risoluzione
- Processing avanzato del substrato per display
Domande frequenti
D: Perché questo prodotto è adatto per la produzione di grandi volumi?
R: La sua stabilità, la bassa generazione di difetti e il tasso di rimozione costante supportano la produzione su scala industriale.
D: Riduce i requisiti di pulizia dopo la lucidatura?
R: Sì, la formulazione a basso residuo riduce al minimo il carico di pulizia a valle.
Caratteristiche del prodotto
Materiale di lucidatura ad ossido di cerio a basso difetto per la produzione avanzata di TFT-LCD Visualizzazione del prodotto Materiale di lucidatura ad ossido di cerio appositamente progettato per la produzione di TFT-LCD di nuova generazione, concentrandosi su tassi di difetto ultra-bassi e ...
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