Qualité Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD Usine
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Qualité Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD Usine
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Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD

Nom de marque: LICHEN
Numéro de modèle: LC
Lieu d'origine: Chine
Certification: ISO
Quantité de commande minimale: 20KGS
Prix: Contact us
Capacité à fournir: 3800MT/AN

Détails de produit


Pureté du CeO₂: ≥99,9 % TREO: ≥99,0%
Taille des particules D50: 1,0 à 2,0 μm Apparence: Poudre jaune clair
pH (boue): 6-9 Densité apparente: 0,8 à 1,2 g/cm³
Mettre en évidence

poudre de polissage d'oxyde de cérium à faible défectuosité

,

matériau de fabrication de TFT-LCD à base d'oxyde de cérium

,

poudre de polissage de terres rares pour LCD

Description de produit


Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD

Vue d'ensemble du produit

Matériau de polissage à l'oxyde de cérium spécialement conçu pour la fabrication de TFT-LCD de nouvelle génération, en mettant l'accent sur des taux de défauts ultra-faibles et une efficacité de production à haut débit.

Principales caractéristiques

  • Performance ultra-faible en matière de rayures et de brouillard
  • Efficacité de polissage élevée pour la production en série
  • Forte stabilité chimique dans les systèmes à lisier
  • Optimisé pour la fabrication d'écrans à haut rendement
  • Qualité constante de lot à lot

Distribution de la taille des particulesLe gouvernement

Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD

Applications

  • lignes de fabrication de TFT-LCD
  • Polissage de vitres d'affichage de grande taille
  • Production de panneaux haute résolution
  • Traitement avancé du substrat d'affichage

Questions fréquemment posées

Q: Qu'est-ce qui rend ce produit adapté à la fabrication en grande quantité?
R: Sa stabilité, sa faible production de défauts et son taux d'élimination constant favorisent la production à l'échelle industrielle.

Q: Cela réduit-il les exigences de nettoyage après polissage?
R: Oui, la formule à faible résidu réduit au minimum la charge de nettoyage en aval.

Points forts du produit

Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD Vue d'ensemble du produit Matériau de polissage à l'oxyde de cérium spécialement conçu pour la fabrication de TFT-LCD de nouvelle génération, en mettant l'accent sur des taux de défauts ultra...

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