Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD
Détails de produit
| Pureté du CeO₂: | ≥99,9 % | TREO: | ≥99,0% |
|---|---|---|---|
| Taille des particules D50: | 1,0 à 2,0 μm | Apparence: | Poudre jaune clair |
| pH (boue): | 6-9 | Densité apparente: | 0,8 à 1,2 g/cm³ |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD
Vue d'ensemble du produit
Matériau de polissage à l'oxyde de cérium spécialement conçu pour la fabrication de TFT-LCD de nouvelle génération, en mettant l'accent sur des taux de défauts ultra-faibles et une efficacité de production à haut débit.
Principales caractéristiques
- Performance ultra-faible en matière de rayures et de brouillard
- Efficacité de polissage élevée pour la production en série
- Forte stabilité chimique dans les systèmes à lisier
- Optimisé pour la fabrication d'écrans à haut rendement
- Qualité constante de lot à lot
Distribution de la taille des particulesLe gouvernement
Applications
- lignes de fabrication de TFT-LCD
- Polissage de vitres d'affichage de grande taille
- Production de panneaux haute résolution
- Traitement avancé du substrat d'affichage
Questions fréquemment posées
Q: Qu'est-ce qui rend ce produit adapté à la fabrication en grande quantité?
R: Sa stabilité, sa faible production de défauts et son taux d'élimination constant favorisent la production à l'échelle industrielle.
Q: Cela réduit-il les exigences de nettoyage après polissage?
R: Oui, la formule à faible résidu réduit au minimum la charge de nettoyage en aval.
Points forts du produit
Matériau de polissage à faible défectuosité à l'oxyde de cérium pour la fabrication avancée de TFT-LCD Vue d'ensemble du produit Matériau de polissage à l'oxyde de cérium spécialement conçu pour la fabrication de TFT-LCD de nouvelle génération, en mettant l'accent sur des taux de défauts ultra...
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