Polvo de pulido de óxido de cerio de alta pureza para sustratos de vidrio TFT-LCD
Detalles del producto
| Pureza del CeO₂: | ≥99,9% | TREO: | ≥99.0% |
|---|---|---|---|
| Tamaño de partícula D50: | 0,8–1,5 µm | Apariencia: | Polvo amarillo claro |
| pH (lodo): | 6-9 | Embalaje: | Personalizado |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Polvillador de óxido de cerio de alta pureza para sustratos de vidrio TFT-LCD
Resumen del producto
Polvo de pulido de óxido de cerio de alta pureza diseñado para el acabado de ultra precisión de sustratos de vidrio TFT-LCD.y micro rayones mínimos, por lo que es adecuado para entornos avanzados de fabricación de pantallas.
Características clave
- Formulación de ceria de ultra alta pureza
- Excelente velocidad de eliminación con rugosidad superficial controlada
- Bajo rendimiento en caso de defecto (rasguños/excavaciones)
- Distribución estable del tamaño de las partículas para un pulido uniforme
- Compatible con sistemas automatizados de pulido mecánico químico (CMP)
Distribución del tamaño de las partículasEl
Aplicaciones
- Polido de sustrato de vidrio TFT-LCD
- Fabricación de pantallas planas
- Fabricación de vidrio de grado óptico
- Componentes para pantallas de semiconductores
Preguntas frecuentes
P: ¿Por qué se utiliza el óxido de cerio en el pulido TFT-LCD?
R: Proporciona una interacción químico-mecánica única con el vidrio a base de sílice, lo que permite una alta eficiencia y un pulido sin defectos.
P: ¿Se puede personalizar el tamaño de las partículas?
R: Sí, la distribución de partículas puede adaptarse según los requisitos del proceso.
Lo más destacado del producto
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