Pó de polimento de óxido de cério de alta pureza para substratos de vidro TFT-LCD
Detalhes do produto
| Pureza CeO₂: | ≥99,9% | TREO: | ≥99,0% |
|---|---|---|---|
| Tamanho de partícula D50: | 0,8–1,5 μm | Aparência: | Pó Amarelo Claro |
| pH (pasta): | 6-9 | Embalagem: | Personalizado |
| Destacar |
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Descrição do produto
Pó de polimento de óxido de cério de alta pureza para substratos de vidro TFT-LCD
Visão geral do produto
Pó de polimento de óxido de cério de alta pureza projetado para acabamento de ultraprecisão de substratos de vidro TFT-LCD. Ele oferece excelente controle de remoção de material, nivelamento de superfície superior e microarranhões mínimos, tornando-o adequado para ambientes avançados de fabricação de displays.
Principais recursos
- Formulação de céria de ultra-alta pureza
- Excelente taxa de remoção com rugosidade superficial controlada
- Baixo desempenho de defeitos (arranhar/escavar)
- Distribuição estável do tamanho das partículas para polimento consistente
- Compatível com sistemas automatizados CMP (Polimento Químico-Mecânico)
Distribuição de tamanho de partículação
Aplicações
- Polimento de substrato de vidro TFT-LCD
- Fabricação de tela plana (FPD)
- Acabamento de vidro de grau óptico
- Componentes de exibição semicondutores
Perguntas frequentes
P: Por que o óxido de cério é usado no polimento TFT-LCD?
R: Proporciona uma interação químico-mecânica única com o vidro à base de sílica, possibilitando polimento de alta eficiência e baixo defeito.
P: O tamanho das partículas pode ser personalizado?
R: Sim, a distribuição de partículas pode ser adaptada com base nos requisitos do processo.
Destaques do Produto
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