Hochreines Ceroxid-Polierpulver für TFT-LCD-Glassubstrate
Produktdetails
| CeO₂-Reinheit: | ≥99,9 % | TREO: | ≥ 99,0% |
|---|---|---|---|
| D50-Partikelgröße: | 0,8–1,5 μm | Aussehen: | Hellgelbes Pulver |
| pH-Wert (Aufschlämmung): | 6-9 | Verpackung: | Maßgeschneidert |
| Hervorheben |
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Produkt-Beschreibung
Hochreines Ceroxid-Polierpulver für TFT-LCD-Glassubstrate
Produktübersicht
Hochreines Ceroxid-Polierpulver für die hochpräzise Endbearbeitung von TFT-LCD-Glassubstraten. Es bietet eine hervorragende Kontrolle des Materialabtrags, eine hervorragende Ebenheit der Oberfläche und minimale Mikrokratzer und eignet sich daher für anspruchsvolle Umgebungen bei der Herstellung von Displays.
Hauptmerkmale
- Ultrahochreine Ceroxid-Formulierung
- Hervorragende Abtragsleistung bei kontrollierter Oberflächenrauheit
- Geringe Fehlerleistung (Kratzen/Digben).
- Stabile Partikelgrößenverteilung für gleichmäßiges Polieren
- Kompatibel mit automatisierten CMP-Systemen (Chemical Mechanical Polishing).
Partikelgrößenverteilungtion
Anwendungen
- Polieren des TFT-LCD-Glassubstrats
- Herstellung von Flachbildschirmen (FPD).
- Glasveredelung in optischer Qualität
- Halbleiter-Anzeigekomponenten
Häufig gestellte Fragen
F: Warum wird Ceroxid beim Polieren von TFT-LCDs verwendet?
A: Es sorgt für eine einzigartige chemisch-mechanische Wechselwirkung mit Glas auf Quarzbasis und ermöglicht so eine hohe Effizienz und eine fehlerarme Politur.
F: Kann die Partikelgröße angepasst werden?
A: Ja, die Partikelverteilung kann je nach Prozessanforderungen angepasst werden.
Produkt-Highlights
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