Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté pour substrats en verre TFT-LCD
Détails de produit
| Pureté du CeO₂: | ≥99,9 % | TREO: | ≥99,0% |
|---|---|---|---|
| Taille des particules D50: | 0,8 à 1,5 μm | Apparence: | Poudre jaune clair |
| pH (boue): | 6-9 | Conditionnement: | Personnalisé |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté pour substrats en verre TFT-LCD
Présentation du produit
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté conçue pour la finition ultra-précise des substrats en verre TFT-LCD. Il offre un excellent contrôle de l'enlèvement de matière, une planéité de surface supérieure et un minimum de micro-rayures, ce qui le rend adapté aux environnements de fabrication d'écrans avancés.
Principales fonctionnalités
- Formulation de cérium de très haute pureté
- Excellent taux d’enlèvement avec une rugosité de surface contrôlée
- Faibles performances en matière de défauts (rayures/creusages)
- Distribution granulométrique stable pour un polissage homogène
- Compatible avec les systèmes automatisés CMP (Chemical Mechanical Polishing)
Distribution de la taille des particulestion
Applications
- Polissage du substrat en verre TFT-LCD
- Fabrication d'écrans plats (FPD)
- Finition du verre de qualité optique
- Composants d'affichage à semi-conducteurs
Foire aux questions
Q : Pourquoi l'oxyde de cérium est-il utilisé dans le polissage des TFT-LCD ?
R : Il offre une interaction chimico-mécanique unique avec le verre à base de silice, permettant un polissage à haute efficacité et à faible défaut.
Q : La taille des particules peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la distribution des particules peut être adaptée en fonction des exigences du processus.
Points forts du produit
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