High-Purity Cerium Oxide Polishing Powder for TFT-LCD Glass Substrates
รายละเอียดสินค้า
| CeO₂ ความบริสุทธิ์: | ≥99.9% | ทรีโอ: | ≥99.0% |
|---|---|---|---|
| D50 ขนาดอนุภาค: | 0.8–1.5 ไมโครเมตร | รูปร่าง: | ผงสีเหลืองอ่อน |
| pH (สารละลาย): | 6-9 | บรรจุภัณฑ์: | ปรับแต่ง |
| เน้น |
cerium oxide polishing powder for TFT-LCD,high-purity cerium oxide powder,rare earth polishing powder for glass |
||
คําอธิบายสินค้า
High-Purity Cerium Oxide Polishing Powder for TFT-LCD Glass Substrates
Product Overview
High-purity cerium oxide polishing powder designed for ultra-precision finishing of TFT-LCD glass substrates. It delivers excellent material removal control, superior surface flatness, and minimal micro-scratches, making it suitable for advanced display manufacturing environments.
Key Features
- Ultra-high purity ceria formulation
- Excellent removal rate with controlled surface roughness
- Low defect (scratch/dig) performance
- Stable particle size distribution for consistent polishing
- Compatible with automated CMP (Chemical Mechanical Polishing) systems
Particle Size Distribution
Applications
- TFT-LCD glass substrate polishing
- Flat panel display (FPD) manufacturing
- Optical-grade glass finishing
- Semiconductor display components
Frequently Asked Questions
Q: Why is cerium oxide used in TFT-LCD polishing?
A: It provides a unique chemical-mechanical interaction with silica-based glass, enabling high efficiency and low-defect polishing.
Q: Can particle size be customized?
A: Yes, particle distribution can be tailored based on process requirements.
จุดเด่นของผลิตภัณฑ์
High-Purity Cerium Oxide Polishing Powder for TFT-LCD Glass Substrates Product Overview High-purity cerium oxide polishing powder designed for ultra-precision finishing of TFT-LCD glass substrates. It delivers excellent material removal control, superior surface flatness, and minimal micro-scratches...
Nano-Grade Cerium Oxide Slurry for TFT-LCD Surface Finishing
Nano-Grade Cerium Oxide Slurry for TFT-LCD Surface Finishing Product Overview Nano-engineered cerium oxide slurry optimized for TFT-LCD panel surface finishing. Designed for ultra-smooth planarization, it ensures defect-free polishing in high-end display production lines. Key Features Nano-scale ...
Low-Defect Cerium Oxide Polishing Material for Advanced TFT-LCD Manufacturing
Low-Defect Cerium Oxide Polishing Material for Advanced TFT-LCD Manufacturing Product Overview Specially engineered cerium oxide polishing material designed for next-generation TFT-LCD manufacturing, focusing on ultra-low defect rates and high throughput production efficiency. Key Features Ultra-low ...
High-Purity Cerium Oxide Polishing Powder for TFT-LCD Glass Substrates
High-Purity Cerium Oxide Polishing Powder for TFT-LCD Glass Substrates Product Overview High-purity cerium oxide polishing powder designed for ultra-precision finishing of TFT-LCD glass substrates. It delivers excellent material removal control, superior surface flatness, and minimal micro-scratches...
สารเติมแต่งเชิงฟังก์ชันซีเรียมออกไซด์สำหรับวัสดุเซรามิกและอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง
ซีเรียมโอไซด์ สารเสริมการทํางานสําหรับวัสดุเซรามิกและอิเล็กทรอนิกส์ที่ก้าวหน้า ภาพรวมสินค้า ซีเรียมโอไซด์เป็นสารเสริมที่ใช้ในการทํางานที่สําคัญที่ใช้ในเซรามิกที่ก้าวหน้า, ส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์, วัสดุเฟอริท, เซ็นเซอร์, และการใช้งานไฟฟ้าการปรับปรุงการซินเตอร์, และผลประกอบการไฟฟ้าที่ดีขึ้นสนับสนุนกา...
กรุณาใช้แบบสอบถามทางออนไลน์ด้านล่าง หากคุณมีคําถาม ทีมงานของเราจะติดต่อกลับกับคุณในเร็วที่สุด
