"rare earth oxide white powder"
化学 機械 セリウムオキシド 汽車用ガラス用スローリング粉
自動車用安全ガラス用セリウムオキシドの磨き粉 記述について 自動車用安全ガラスのリッヘンセリウム酸化物磨き粉は,自動車用安全ガラスの優れた透明性と滑らかさを提供するために設計された高性能磨き液です.特別にフロントガラスのために設計されたシリウムオキシド粉末は ガラスの表面を欠陥から解放し 理想的な視力 運転手の安全性 そして美学的な品質を保証します 擦り傷,酸化,または曇った自動車ガラスを磨いても 磨き粉は高品質な結果をもたらし 欠陥を取り除き 滑らかで磨かれた仕上げを残しますリヒンシウムのセリウム酸化粉末は,欠陥発生が少ない一貫した磨きを可能にします自動車ガラスの磨きには不可欠なソリューショ...
セリアムオキシドセリア フォトマスク用風車ガラス磨き粉 空白宝石2.0μm
低欠陥セリウムオキシド フォトマスクの空白磨き用 記述 低欠陥セリウムオキシドは 半導体製造における フォトマスクのプリキュア・ポーリング用に 特別に作られています欠陥を最小限に抑え 完璧な仕上げを保証するこの高性能セリウム酸化物は 表面の質が重要な photomaskアプリケーションに理想的です. 卓越した磨き効率と表面の整合性を提供します.私たちのセリウムオキシドは,光学的な明晰度と次元精度の最高水準を保証します 写真マスクの空白処理. 主要な特徴: 低欠陥製剤: 粒子汚染と欠陥を減らすために設計されたこのセリウム酸化物は,非常に一貫して均質な表面仕上げを保証します.半導体光立光学に使用さ...
スマートフォンのカメラレンズのためのシリウムオキシド磨材
スマートフォンカメラレンズのためのシリウムオキシドスラム 記述 スマートフォンカメラのレンズに 最高級の磨き性能を 提供するために特別に作られています表面の損傷を防止しながら優れた表面品質を提供するように設計されたこのセリウムオキシドスラムは高品質のスマートフォンカメラで透明性,摩擦耐性,最小限の歪みを保証し,高精度な光学レンズの仕上げを達成するのに理想的です. 主要な特徴: スマートフォン カメラのレンズが 徹底した磨き後でも 始末状態のままであることを保証する 超滑らかで 傷痕のない仕上げを 提供するように設計されています. 高純度セリウム酸化物:スローリーは高純度セリウム酸化物を使用し,...
0スマートフォン・タブレット用.
蓋のガラスの仕上げのためのセリウム酸化の磨き粉 記述について カーブグラス仕上げ用リッヘンセリウムオキシドの磨き粉は 高純度で消費電子機器や自動車用ディスプレイで使用されるカバーガラスの最終仕上げのために特別に設計された細粒子の磨き材料優れた表面の滑らかさ,高光り,優れた欠陥制御を保ち,安定して効率的な磨き性能を維持します. この製品は,スマートフォンカバーガラス,タブレットガラス,スマートウォッチガラス,カメラ保護ガラス,自動車ディスプレイカバーパネルの磨きに使用されています.優れた光学透明性と表面の一貫性を確保する. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 慎重 に 制御 さ れ ...
液体スーパーセリウムオキシド グラス・ポーリング用 水性スラージー・ハズ・リムーバー
シリウムオキシドスラム ディスプレイカバーガラス 記述について ディスプレイカバーガラス用リッヘンセリウムオキシドスラーリーは,ディスプレイカバーガラスの精密磨きのために作られた高純度水性スラーリです.スマートフォン画面の製造に使用するために特別に設計されたグラス・タッチ・表面を備えた電子機器は 優れた表面質,光学的な透明性,耐久性を保証します 表面の欠陥を効果的に除去します 傷や霧や微小の欠陥など電子機器やディスプレイ産業の厳しい要求を満たす 欠陥のないカバーガラスを製造者に提供します. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物組成 このスローリーは超純セリウム酸化物で作られ,ガラス表...
擦り傷抵抗性 ガラス磨き用セリウム酸化物スラム 0.6μM
シリウムオキシドスラム ディスプレイカバーガラス 記述について ディスプレイカバーガラス用リッヘンセリウムオキシドスラーリーは,スマートフォン,タブレット,ウェアラブル,電子機器超細いセリウムオキシド粒子で作られ,このスローリーは優れた表面の滑らかさ,光学的な透明性,および摩擦耐性を保証し,高級ガラスカバーにプレミアム仕上げを提供します. 表面の欠陥や霧や微小の傷を 除去するのに最適です現代電子機器に要求される厳格な品質基準を満たす超滑らかな仕上げ. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 液体は超純セリウムオキシードで作られ 表面汚染を防ぎながら 一貫した磨き結果が保証されます低不純...
スクラッチ削減ガラスポリシングパスタ 3ミクロンセリウム酸化物ベースの粉末
スマートフォンカバーガラス用 スクラッチ削減磨き粉記述についてスマートフォンカバーガラス用リッヘン・スクラッチ・リデクション・ポーリング・パウダーは,スマートフォンカバーガラスに滑らかで,スクラッチのない仕上げを提供するために設計された高性能セリウム酸化物ベースの粉末です.サファイアガラスで作業するかどうかスマートフォン用ガラス材料などです この磨き粉は,モバイルデバイスの画面の光学透明性と耐久性を高めるために特別に作られています表面の傷や欠陥の出現を著しく減少させる.ガラスの表面が 透明で輝く仕上げを保ちますデバイスの整体的な視覚品質とタッチスクリーン応答性を向上させ,同時にデバイスの美学的...
紫外線保護金属 CMP セリウムオキシドスラム プレコーティング ガラスポーリング
プレコーティング用ガラス磨き用セリウムオキシドスラム 記述について プレコーティング用ガラス磨き用リッヘンセリウムオキシドスラムは,プレコーティング用ガラス磨き用に特別に設計された高性能セリウムオキシドベースのスラムである.グラス製造およびコーティング産業で使用するのに最適グラスコーティングの最適な粘着と均一性のために不可欠です. 自動車ガラス,建築ガラス,消費電子機器のガラス粘土は高度に均質な仕上げを 提供し,ガラスの表面を 塗料処理に備えています リチェン・スローリーは,表面の滑らかさと光学的な透明性を向上させながら,制御された材料除去を実現し,コーティングが適切に粘着し,持続的な性能を提...
高精度サファイア光学磨き粉 CAS 1306-38-3 OEM
電子部品のためのセリウム酸化の磨き粉 概要: 精巧に設計され 光学部品に 完璧で高精度な仕上げを 提供していますこの粉末は,繊細な光学表面を磨くのに優れた性能を提供します.レンズ,鏡,プリズマ,または他の光学装置で作業するかどうかにかかわらず私たちの磨き粉は,様々な光学アプリケーションで優れた結果を保証します. 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物:高品質のセリウム酸化物で製造された私たちの磨き粉は,光学表面の整合性を維持しながら,最大限の磨き効率を保証します. 卓越した表面透明性: 表面の欠陥を最小限に抑え,レンズと光学部品の高い透明性と性能を確保するために設計された. 微細粒子の大きさ:粉末...
CMP セリウム ポリッシュ 粉 玻璃 ポリッシュ ためのセリウム オキシード シリコン ウェーファー
シリコン・ウェーファーのための磨き粉 CMP 記述 半導体ノードに求められる 極度の平坦性を 達成する為に 先進的なセリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉を 開発しました私たちの粉末は,シリコンウエファの大量生産のために設計されています原子レベルのスムーズさを提供し,サブ7nm論理と3DNANDメモリアーキテクチャに不可欠です. 私たちの製剤は 精密に制御された粒子形状を活用し 化学機械的シネージを最大化し 表面の欠陥を最小限に抑えながら 高い物質除去率 (MRR) を確保します 業績基準 平面性: 0.2 nm 未満の表面荒さ値を達成するために設計され,多層薄膜堆積のための完全に平坦な基盤を提...
半導体 ポリシング Ceo2 オキシド スラム 高精度 1.0μm
高精度半導体製造用スローリング 概要: 半導体製造のための 高性能磨きスラリーは 半導体産業の要求に応えるように設計されていますこのスローリーは,ウエフルの表面仕上げにおいて優れた精度を提供します.次世代の半導体装置にとって不可欠な超滑らかな表面を保証します 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物:高度なセリウム酸化物技術を活用し,卓越した磨き効率と精巧な表面仕上げを提供します. 優れた除去率:最小限の表面欠陥で精密な材料除去に最適化され,先進的な半導体ウェーバーアプリケーションに最適化されています. 汎用性:シリコン,ガリウムアルセニード (GaAs) および他の化合物半導体を含む幅広い半導体材...
半導体用セリウムオキシド光学ガラス磨き粉
高指数赤外線 (IR) 光学を磨くためのセリウム酸化物 記述 高インデックス赤外線 (IR) 光学を磨くためのセリウム酸化物は,赤外線光学部品の要求の高い表面品質要件を満たすために特別に開発されています.高インデックスIR材料に最適化このセリウムベースの磨き製品は,制御された材料除去,超低表面荒さ,およびIRシステムにおける光学性能を維持するために不可欠な表面下部の損傷を最小限にします. 主要 な 特徴 高インデックスIR材料に最適化: 優れたプロセス安定性を持つ密度の高い高屈折率IR基質を磨くために設計されています. 高純度セリウム酸化物: 低汚染レベルと敏感なIR光学のための一貫した磨き性...
