光学ガラスの擦り取り除去剤を磨く 粉末 防風ガラスのためのセリウム酸化物
製品詳細
| 粒子サイズ: | 1.0±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 73~78% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 応用: | 光学ガラス |
| ハイライト |
光学ガラスの擦り去り粉末,風車ガラスの擦り取り剤粉末,フロントガラス用セリウムオキシド粉末の磨き |
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製品の説明
光学ガラスの製造のための磨き粉
記述について
光学ガラスの製造のためのリッセン磨き粉は 高品質の光学磨き材で 一貫した材料除去,優れた表面滑らかさを提供するために設計されています幅広い光学ガラスタイプで安定したプロセス性能制御された粒子の大きさ分布を持つ高純度磨材を用いて製成されたこの磨粉は,精密光学生産の要求を支えています.
中間や最終的な磨き段階の両方に設計されたこの製品は,製造者が高い光学透明性,低表面粗さ,高密度で高精度な光学ガラスの製造環境で,表面の質が重複できる.
主要 な 特徴 と 利点
高純度アブラシブ材料
低汚れ含有は,きれいな磨き動作と光学レベルの表面品質を保証します.
制御された粒子の大きさ分布
均質な素材除去を保証し,微小な傷や表面欠陥を最小限に抑える
安定した磨き性能
一貫した磨削特性により,生産量を超えて繰り返される結果が得られる.
汎用的な用途
多種多様な光学ガラス組成や磨きプロセスに適しています
プロセスと機器の互換性
標準的な光学磨き機,パッド,ツールで使用するように設計されています.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78% | 1.0±0.2μm | 白い粉末 | 光学ガラス |
粒子の大きさの分布について
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
光学ガラスの製造のための磨き粉 記述について 光学ガラスの製造のためのリッセン磨き粉は 高品質の光学磨き材で 一貫した材料除去,優れた表面滑らかさを提供するために設計されています幅広い光学ガラスタイプで安定したプロセス性能制御された粒子の大きさ分布を持つ高純度磨材を用いて製成されたこの磨粉は,精密光学生産の要求を支えています. 中間や最終的な磨き段階の両方に設計されたこの製品は,製造者が高い光学透明性,低表面粗さ,高密度で高精度な光学ガラスの製造環境で,表面の質が重複できる. 主要 な 特徴 と 利点 高純度アブラシブ材料 低汚れ含有は,きれいな磨き動作と光学レベルの表面品質を保証します. 制...
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