シルコニウム金属粉を磨く スラム 稀土化合物
製品詳細
| D50(μm): | 2.0±02 | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂%: | 73~78% | 応用: | 光学 |
| ハイライト |
稀土ジルコニウム金属粉,シルコニウム金属粉末 スラム,シルコニウム化合物 スラム |
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製品の説明
光学表面の仕上げのための磨き粉
記述
セリウムベースの磨き粉は,光学ガラスと電子基板の高精度仕上げのために特別に設計された高性能稀土化合物です.これらの粉末は,シリカと独特の化学機械的な相互作用のために,業界の標準のままです超滑らかで擦り傷のない表面を生成する一方で,素材をより速く取り除くことができます.
主要な性能特性
高度な除去率効率的なストック除去を可能にします これは眼鏡やフラットガラスなどの大量生産環境にとって重要です
精密仕上げ:先進的なレーザー光学と高解像度のカメラレンズに必要なアングストロムレベルの表面荒さと低散乱の仕上げを達成できる.
絶好の懸垂:現代製剤は,再循環性スラムシステムで沈着や塞栓を防ぐため,ススペンション特性が向上するように設計されています.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78% | 2.0±02 | 粉末 | 光学 |
粒子の大きさの分布
製品 ハイライト
光学表面の仕上げのための磨き粉 記述 セリウムベースの磨き粉は,光学ガラスと電子基板の高精度仕上げのために特別に設計された高性能稀土化合物です.これらの粉末は,シリカと独特の化学機械的な相互作用のために,業界の標準のままです超滑らかで擦り傷のない表面を生成する一方で,素材をより速く取り除くことができます. 主要な性能特性 高度な除去率効率的なストック除去を可能にします これは眼鏡やフラットガラスなどの大量生産環境にとって重要です 精密仕上げ:先進的なレーザー光学と高解像度のカメラレンズに必要なアングストロムレベルの表面荒さと低散乱の仕上げを達成できる. 絶好の懸垂:現代製剤は,再循環性スラムシ...
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