지르코늄 금속 분말 가루 희토류 화합물
제품 상세정보
| D50(μm): | 2.0±0.2 | CAS 번호: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2%: | 73~78% | 애플리케이션: | 광학 |
| 강조하다 |
희토류 지르코늄 금속 분말,지르코늄 금속 분말,지르코늄 화합물 |
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제품 설명
광적 표면 가공용 닦기 파우더
설명
세리움 기반의 닦기 분말은 광학 유리 및 전자 기판의 고정도 완화를 위해 특별히 설계된 고성능 희토류 화합물입니다.이 분말은 실리카와 독특한 화학 기계적 상호 작용으로 인해 산업 표준으로 남아 있습니다., 이것은 초 부드럽고 스크래치 없는 표면을 생산하면서 물질을 더 빨리 제거 할 수 있습니다.
주요 성능 특징
높은 제거율:효율적인 재고 제거를 제공하며, 이는 안과 렌즈와 평면 유리 생산과 같은 대용량 제조 환경에 매우 중요합니다.
정밀 마감:첨단 레이저 광학과 고해상도 카메라 렌즈에 필요한 안그스트롬 수준의 표면 거칠성 및 낮은 스캐터 마감을 달성 할 수 있습니다.
우수한 서스펜션:근대적인 조식은 재순환 용액 시스템에서 침착과 막힘을 방지하기 위해 향상된 서스펜션 특성을 갖도록 설계되었습니다.
기술 데이터
| 분자 공식 | CAS 번호 | CeO2 % | D50 (μm) | 외모 | 적용 |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78% | 20.0±0.2 | 분말 | 광학 |
입자 크기 분포
제품 하이라이트
광적 표면 가공용 닦기 파우더 설명 세리움 기반의 닦기 분말은 광학 유리 및 전자 기판의 고정도 완화를 위해 특별히 설계된 고성능 희토류 화합물입니다.이 분말은 실리카와 독특한 화학 기계적 상호 작용으로 인해 산업 표준으로 남아 있습니다., 이것은 초 부드럽고 스크래치 없는 표면을 생산하면서 물질을 더 빨리 제거 할 수 있습니다. 주요 성능 특징 높은 제거율:효율적인 재고 제거를 제공하며, 이는 안과 렌즈와 평면 유리 생산과 같은 대용량 제조 환경에 매우 중요합니다. 정밀 마감:첨단 레이저 광학과 고해상도 카메라 렌즈에 필요한 안그...
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