品質 1.1μmセリウム酸化物 石の光学を磨くための摩擦化合物粉 工場
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1.1μmセリウム酸化物 石の光学を磨くための摩擦化合物粉

ブランド名: LICHEN
モデル番号: LC019
原産地: 中国
認証: ISO9001
最小注文数量: 20KGS
価格: NEGOCIABLE
供給能力: 3000MT/year

製品詳細


粒子サイズ: 0.7~1.1μm CAS番号: 1306-38-3
CeO₂%: 73~78% サスペンション: 素晴らしい
Ph 範囲: 7-10 配合: カスタマイズされた
ハイライト

オプティクス セリウムオキシドの摩擦化合物

,

1.1μmセリウムオキシドの摩擦化合物

,

1宝石を磨くためのセリウム酸化物

製品の説明

光学用粉末の細粒子の磨き粉

記述

微粒子のセリウムオキシド磨き粉で 妥協のない表面品質を 達成します

制御された粒子形状と 化学反応性を最適化することで私たちの粉末は,超低分散を維持しながら,物質の迅速な除去を保証する優れた化学-機械磨き (CMP) 作用を提供します,ピットフリーフィニッシュ.

 

主要な性能特性

精密粒子サイズ分布 (PSD): 私たちの高度なフライディングと分類プロセスは,例外的に狭いPSDを保証します.微細な傷を起こす大きな粒子の危険性を排除できます.

強化された表面化学:セリウムとシリケートガラスの間の化学的相互作用を最大限にするために設計された 私たちの粉末は,効率的で損傷のない磨きのために分子レベルで表面を柔らかくします.

特殊な清潔性: 低粘着性のために作られ,私たちの粉末は,処理されたコンポーネントと磨き機械から簡単に洗浄され,超音波清掃時間を短縮し,処理量を増加します.

標準の粉末よりも長く懸垂に保持するために最適化され, 磨きインターフェースで一貫した濃度を確保します.大量の循環システムでも.

純度と一貫性: 99%を超える希少地球酸化物 (REO) 含有量で,この粉末は敏感な高電力レーザーと画像光学における汚染関連の欠陥を防止します.

 

技術データ

分子式 CAS番号 CeO2 % D50 (μm) 外見 適用する
CeO2 1306-38-3 73~78% 0.7-11 白い粉末 光学

 

粒子の大きさの分布

1.1μmセリウム酸化物 石の光学を磨くための摩擦化合物粉

Q&A

1セリウムオキシドの磨き粉とは?

答え:

セリウム酸化物磨き粉は,光学部品,半導体ウェーファー,ガラスやレンズなどの他の繊細な表面を磨くために広く使用される高純度化合物です.細い粒子 と 優れた 化学 特性 を 備える 材料 に よっ て,磨き られ て いる 表面 に 損傷 を 及ぼさ ず に 高い 透明 性 と 滑らかさ を 得る の に 理想 的 に なり ます.

2適切なセリウムオキシドの磨き粉を どのようにして選べますか?

答え:

適正 な 磨き粉 を 選べる の は,磨く 材料 と 望ま れ て いる 仕上げ に 依存 し て い ます.粒子 の 大きさ,純度,そして,あなたの磨きプロセスの特定の要求は,あなたの選択を導くべきです販売チームは,あなたのニーズに最適な製品を選択するのにあなたを助けることができます.

3セリウムオキシドの磨き粉をどのように保管すべきですか?

答え:

セリウム オキシド の 磨き粉 は,直接 の 日光 や 湿度 から 遠ざかっ て,涼しく 乾燥 し た 場所 に 保管 し,汚染 を 防止 する ため,密閉 し た 防空 容器 に 保管 し て ください.適切な保管は,製品が時間とともに品質と有効性を維持することを保証します正しく保管された場合,セリウム酸化物磨き粉は通常1〜2年の保存期間があります.

4セリウムオキシドの製剤を 提供していますか?

答え:

ええ,我々は特定の性能要件を満たす パーソナライズドセリウムオキシド磨き粉末とスラージーを提供します.またはスローリングの一貫性あなたのニーズに最も適した配合を作ることができます.

5大量注文する前にサンプルを貰えますか?

答え:

はい,我々は評価のために我々のセリウムオキシド磨き粉とスラージーのサンプルを提供します. サンプルを依頼するために私達に連絡してください,そして私たちのチームは出荷を整理します.

6. どうやって注文できますか?セリウム酸化物製品の典型的な配達時間は?

販売チームに連絡して注文することができます. プロセスを通して案内し,製品選択に助け,お客様のニーズに基づいて価格を提示します. 注文が確認されたら,推定配送スケジュールを提供します.配送時間は,注文のサイズ,場所,および商品が在庫かどうかによって異なります.

製品 ハイライト

光学用粉末の細粒子の磨き粉 記述 微粒子のセリウムオキシド磨き粉で 妥協のない表面品質を 達成します 制御された粒子形状と 化学反応性を最適化することで私たちの粉末は,超低分散を維持しながら,物質の迅速な除去を保証する優れた化学-機械磨き (CMP) 作用を提供します,ピットフリーフィニッシュ. 主要な性能特性 精密粒子サイズ分布 (PSD): 私たちの高度なフライディングと分類プロセスは,例外的に狭いPSDを保証します.微細な傷を起こす大きな粒子の危険性を排除できます. 強化された表面化学:セリウムとシリケートガラスの間の化学的相互作用を最大限にするために設計された 私たちの粉末は,効率的で...

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